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| 審判番号（事件番号） | データベース | 権利 |
|---|---|---|
| 平成21行ケ10253審決取消請求事件 | 判例 | 特許 |
| 平成23行ケ10258審決取消請求事件 | 判例 | 特許 |
| 平成22行ケ10184審決取消請求事件 | 判例 | 特許 |
| 平成23行ケ10130審決取消請求事件 | 判例 | 特許 |
| 平成22行ケ10019審決取消請求事件 | 判例 | 特許 |
| 関連ワード | 製造方法 / 新規性 / 進歩性(29条2項) / 容易に発明 / 発明特定事項 / 周知技術 / 上位概念 / 発明の詳細な説明 / 参酌 / 数値限定 / 技術的意義 / 容易に想到(容易想到性) / 実施 / 交換 / 構成要件 / 設定登録 / 請求の範囲 / 減縮 / 拡張 / 変更 / 訂正明細書 / |
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| 元本PDF |
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| 事件 |
平成
22年
(行ケ)
10234号
審決取消請求事件
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|---|---|
| 裁判所のデータが存在しません。 | |
| 裁判所 | 知的財産高等裁判所 |
| 判決言渡日 | 2011/03/23 |
| 権利種別 | 特許権 |
| 訴訟類型 | 行政訴訟 |
| 判例全文 | |
|---|---|
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判例全文
平成２２年（行ケ）第１０２３４号 審決取消請求事件（特許） 口頭弁論終結日 平成２３年３月１４日 判 決 原 告 吉 野 石 膏 株 式 会 社 訴 訟 代 理 人 弁 理 士 伊 東 忠 彦 同 佐 々 木 定 雄 同 大 貫 進 介 同 山 口 昭 則 同 伊 東 忠 重 被 告 株 式 会 社 ナ コ ー ド 被 告 太平洋セメント株式会社 被告両名訴訟代理人弁護士 稲 元 富 保 同訴訟代理人弁理士 中 井 潤 主 文 １ 特許庁が無効２００９?８００２２３号事件について平成 ２２年６月１５日にした審決を取り消す。 ２ 訴訟費用は被告両名の負担とする。 事実及び理由 第１ 請求 主文同旨 第２ 事案の概要 １ 本件は，被告両名が権利者であり名称を「無水石膏の製造方法及び無水石膏 焼成システム」とする発明についての特許第４２０２８３８号（出願日 平成 １５年６月２５日，登録日 平成２０年１０月１７日，請求項の数５。以下「本 件特許」という。）の請求項１ないし５（以下「本件発明１」などといい，全 体を「本件各発明」という。）に対し，原告が特許無効審判請求をし，被告ら が平成２２年１月２２日付けで訂正請求（以下「本件訂正請求」という。）を して対抗したところ，特許庁が，上記訂正請求を認めた上，請求不成立の審決 をしたことから，これに不服の原告が取消しを求めた事案である。 ２ 争点は， @特許請求の範囲の減縮を理由とする本件訂正請求を認めたことが適法か， A本件訂正後の請求項１ないし５記載の発明（以下「訂正後発明１」などとい う。）が下記引用例との関係で進歩性を有するか（特許法29条2項）， である。 記 ・甲１：特公昭６０?９８５２号公報（発明の名称「V焼装置」，公開日 平 成５９年１月２７日，公告日 昭和６０年３月１３日，以下，これに 記載された発明を「甲１発明」といい，甲２以下も同様とする。） ・甲２：特開２００２?８６１２６号公報（発明の名称「石膏ボード廃材の焼 成方法」，公開日 平成１４年３月２６日） ・甲３：特開平６?２７９０７５号公報（発明の名称「粉体焼成炉の排ガス排 出路」，公開日 平成６年１０月４日） ・甲４：特開平１１?１００２４４号公報（発明の名称「セメント製造方法」， 公開日 平成１１年４月１３日） ・甲５：特開平１０?２３０２４２号公報（発明の名称「石膏ボード廃材の処 理方法及びその装置」，公開日 平成１０年９月２日） ・甲６：村上恵一監修「新しい資源・セッコウとその利用」１９０?１９１頁 ・〔株〕ソフトサイエンス社（昭和５１年３月２０日発行） ・甲７：特許第２５７１３７４号公報（発明の名称「焼成装置における改良」， 公開日 昭和６２年９月２４日） ・甲８：特開２００３?１１７３４３号公報（発明の名称「排ガス処理装置」， 公開日 平成１５年４月２２日） ・甲９：石膏石灰学会編著「石膏石灰ハンドブック」第１版第１刷４４４?４ ４５頁・〔株〕技報社（昭和４７年６月１５日発行） 第３ 当事者の主張 １ 請求の原因 (1) 特許庁における手続の経緯 被告両名は，上記内容の本件特許の特許権者であり，原告は，平成２１年 １０月２８日，本件特許の請求項１ないし５に対し，本件発明１ないし５は 上記甲１ないし９発明に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明を することができたから，特許法29条2項に違反するとして，特許無効審判 請求をした。 特許庁は，上記請求を無効２００９?８００２２３号事件として審理し， その中で被告両名は平成２２年１月２２日付けで本件訂正請求（請求項の数 ５。甲２０）をしたが，特許庁は，平成２２年６月１５日，「訂正を認める。 本件審判の請求は，成り立たない。」旨の審決をし，その謄本は同年６月２ ４日原告に送達された。 (2) 訂正前発明の内容 平成２２年１月２２日付け本件訂正前の発明の内容（設定登録時のもの） は，次のとおりである。 ・【請求項１】 内筒の内部で燃料を燃焼させて該内筒の下部の開口部から 燃焼ガスを噴出させ，前記内筒を囲繞し，下部が逆円錐状に形成された本 体に石膏廃材を供給し，該本体の内部で該石膏廃材を３３０℃以上８４０ ℃以下に加熱しながら，前記燃焼ガスによって流動化させ，生じた無水石 膏を前記本体の内部から外部に排出することを特徴とする無水石膏の製 造方法。 ・【請求項２】 前記内筒及び本体を備える無水石膏焼成炉から排出される 燃焼ガスを集塵して捕集されるダストの７０質量％以上を，該無水石膏焼 成炉に戻すことを特徴とする請求項１に記載の無水石膏の製造方法。 ・【請求項３】 前記集塵を２段階で行い，前段の集塵を集塵効率９０％以 上のサイクロンで行うことを特徴とする請求項２に記載の無水石膏の製 造方法。 ・【請求項４】 前記前段の集塵を行うサイクロンを，前記無水石膏焼成炉 の直上に配置し，該サイクロンにて集塵したダストを輸送機を介さずに直 接該無水石膏焼成炉に戻すことを特徴とする請求項３に記載の無水石膏 の製造方法。 ・【請求項５】 下部に開口部を備えた内筒と，該内筒を囲繞し，下部が逆 円錐状に形成された本体とを備え，前記内筒の内部で燃料が燃焼するとと もに，前記開口部より燃焼ガスが噴出し，前記本体の内部に供給された石 膏廃材が該本体の内部で加熱されながら，前記燃焼ガスによって流動化 し，前記本体の内部から外部に無水石膏として排出される無水石膏焼成炉 と，該無水石膏焼成炉から排出される燃焼ガスが導入され，該燃焼ガスに 含まれるダストを第一段階で集塵する，該無水石膏焼成炉直上に配置され たサイクロンと，該サイクロンの排気を第二段階で集塵する集塵機とを備 え，該サイクロン及び該集塵機で捕集したダストを該無水石膏焼成炉に戻 す経路を有することを特徴とする無水石膏焼成システム。 (3) 本件訂正の内容（訂正後発明の内容も含む） ア 訂正事項ａ 平成２２年１月２２日付け訂正請求書（甲２０）による訂正後の請求項 １ないし５は，次のとおりである（下線部分が訂正箇所）。 ・【請求項１】 内筒の内部で燃料を燃焼させて該内筒の下部の開口部か ら燃焼ガスを噴出させ，前記内筒を囲繞し，下部が逆円錐状に形成され た本体にナフタレンスルホン酸基を含む石膏廃材を供給し，該本体の内 部で該石膏廃材を，該本体出口における粉粒体温度が３３０℃以上５０ ０℃以下になるように加熱しながら，前記燃焼ガスによって流動化さ せ，生じたU型無水石膏を前記本体の内部から外部に排出することを特 徴とする無水石膏の製造方法。 ・【請求項２】ないし【請求項４】は変更なし（上記のとおり） ・【請求項５】 下部に開口部を備えた内筒と，該内筒を囲繞し，下部が 逆円錐状に形成された本体とを備え，前記内筒の内部で燃料が燃焼する とともに，前記開口部より燃焼ガスが噴出し，前記本体の内部に供給さ れたナフタレンスルホン酸基を含む石膏廃材が該本体の内部で，該本体 出口における粉粒体温度が３３０℃以上５００℃以下になるように加 熱されながら，前記燃焼ガスによって流動化し，前記本体の内部から外 部にU型無水石膏として排出される無水石膏焼成炉と，該無水石膏焼成 炉から排出される燃焼ガスが導入され，該燃焼ガスに含まれるダストを 第一段階で集塵する，該無水石膏焼成炉直上に配置されたサイクロン と，該サイクロンの排気を第二段階で集塵する集塵機とを備え，該サイ クロン及び該集塵機で捕集したダストを該無水石膏焼成炉に戻す経路 を有することを特徴とする無水石膏焼成システム。 イ 訂正事項ｂ，ｃ，ｄ 明細書の段落【００１０】，【００１１】の「３３０℃以上８４０℃以 下」を「３００℃以上５００℃以下」と各変更し，段落【００１１】の 「２０分以上の滞留時間を与える」を削除し，段落【００１５】の「内 部から外部に無水石膏として排出される」を「内部から外部にU型無水 石膏として排出される」に変更するもの（詳細は別添審決写し参照）。 (4) 審決の内容 ア 審決の内容は，別添審決写しのとおりである。その要点は，@本件訂正 は，願書等に記載されている事項の範囲内の訂正であり，また，実質上特 許請求の範囲を拡張し又は変更するものでもなく適法である，A訂正後発 明１ないし５はいずれも甲１ないし甲９発明等及び周知事項に基づいて 当業者が容易に発明することができたということはできない，というもの である。 イ なお，審決が認定した甲１発明等の内容，本件訂正後の発明と甲１発明 との一致点及び相違点ａ・ｂ・ｃは，上記審決写しのとおりである。 (5) 審決の取消事由 しかしながら，審決には以下のとおりの誤りがあるから，審決は違法とし て取り消されるべきである。 ア 取消事由１（本件訂正の適否に関する判断の誤り） (ｱ) 訂正事項ａにつき ａ 審決は，訂正事項ａについて，「詳述すれば次の（ｉ）?（ｖｉ） の訂正事項を含むものである。 とし， 」 「(ii)請求項１について，『該 本体の内部で該石膏廃材を３３０℃以上８４０℃以下に加熱しなが ら』とあるのを，『該本体の内部で該石膏廃材を，該本体出口におけ る粉粒体温度が３３０℃以上５００℃以下になるように加熱しなが ら』に訂正する。」（以下「訂正事項ａ(ii)」という。）に関し，「当 該訂正事項は，本体の内部での石膏廃材の加熱について，『該本体出 口における粉粒体温度が・・・℃以下になるように加熱』すると限定 するものであり，特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。」 と認定し（審決５頁１９?２１行），さらに，「そして，当初明細書 等には，実施例について，『無水石膏焼成炉３１の運転条件は，炉出 口粉粒体温度が４６０℃，・・・を目標とした。』（段落【００３４】） という記載があることから，当初明細書等に記載された事項の範囲内 においてなされたものである。」と判断している（審決５頁２２?２ ５行）。 しかしながら，石膏廃材の加熱温度を本体内部で規定することと， 炉本体出口の温度で規定することとは，技術的な意味が異なる。すな わち，本件訂正前の本件特許明細書及び図面（甲１０。以下「当初明 細書等」という。）には，炉の本体内部の温度が製品排出部の温度と 実質的に同じとする記載は一切なく，「石膏廃材の温度に関する特定 が実質に変更されるものでない」とする認定は，根拠のないものであ り，当初明細書等の段落【００３０】の記載によれば，石膏廃材が燃 焼ガスと熱交換が完了して無水石膏Ｐに変化して後，エアーランス１ ４を介して導入されたコンプレッサ６からの圧縮空気Ｃにより流動 化され，開口部１３ｄから製品排出管２３を介して排出されるのであ るから，排出される製品は外部から導入される圧縮空気Ｃと接触し， これにより冷却されて製品の温度は本体内部の温度より低くなるこ とは容易に推定できる。したがって，「本体内部での該石膏廃材を・ ・・℃以下に加熱」とされたものを，「本体内部で該石膏廃材を，該 本体出口における粉粒体温度が・・・℃以下になるように加熱」とす る訂正は，特許請求の範囲の減縮を目的とするものでないことは明ら かである。 そして，訂正前の「本体内部での該石膏廃材を３３０℃以上８４０ ℃以下に加熱しながら」は，これ自体，技術的に不明りょうというも のでなく，また，誤記でもないのであって，特許法126条1項のい ずれにも該当せず，このような訂正は，炉本体の内部の石膏廃材の加 熱温度に関し，「炉本体の内部の温度」で規定したものを，「本体出 口における粉粒体温度」で規定したものに変更したものであるから， 特許請求の範囲を実質的に変更したものであることは明白である。 なお，この点に関し，被告らは，上記訂正事項ａ(ii)のうち，「本 体内部で石膏廃材を・・・℃以下に加熱」とされたものを，「本体内 部で該石膏廃材を，該本体出口における粉粒体温度が・・・℃以下に なるように加熱」とする訂正事項は，本体の内部での石膏廃材の加熱 についての訂正であって，本体の内部での石膏廃材の加熱温度の特定 についての訂正でない旨主張するが，訂正事項ａ(ii)は「該本体の内 部で石膏廃材を・・℃以下となるように加熱」とあるように，「本体 の内部での石膏廃材の加熱温度の特定」について行われた訂正である ことは明白であり，「加熱」に関する訂正であって，「本体の内部で の石膏廃材の加熱温度の特定についての訂正ではない」とする被告ら の主張は，技術的な内容を伴わない形式的な議論にすぎず，失当であ る。 ｂ また，審決は，訂正事項ａ(ii)に関し，上記訂正事項は当初明細書 等に記載された事項の範囲内においてなされたものであると判断し， その理由について，大要，次の点を挙げている（審決６頁１５?２８ 行）。 @ 訂正後の「５００℃」という上限値は当初明細書等には明記され ていないが，本体出口において測定される温度は，本体内部での加 熱温度と実質的に変わらないとみることができる。 A 口頭審理において被請求人（被告ら）が陳述したとおり，上限を 「５００℃以下」とすることに特に臨界的意義はないと認められ る。 B 当初明細書等の【表２】には，実施例における「炉出口粉粒体温 度（℃）」が，「４６０℃」（実施例１），「４７０℃」（実施例 ２），「４５０℃」（実施例３），「４７０℃」（実施例４）であ ったことが記載されており，これらが，４６０℃を目標とした実測 値であることを考慮すると，運転目標温度に対して実測温度が若干 高くなることも多いといえ，当初明細書等に具体的に記載された４ ６０℃より多少高めの温度を上限として温度範囲を減縮すること が，当初明細書等のすべての記載を総合することにより導かれる技 術的事項との関係において，新たな技術的事項を導入するというこ とはできない。 しかしながら，上記審決の理由は，以下のとおり，全く妥当性を欠 くものである。 すなわち，まず，上記@については，「５００℃」の導入の問題と， 「本体出口において測定される温度は，本体内部での加熱温度と実質 的に変わらないとみることができる」といかなる関係にあるのか必ず しも明らかでないばかりか，本体内部の温度と出口温度が実質変わら ないとする判断が根拠を欠くものであることは，上記ａで指摘したと おりである。 また，上記Aについては，当初明細書には，加熱温度の上限を「５ ００℃」とすること，また，５００℃以下と５００℃以上で作用効果 上顕著な差異が生じることを窺わせる記載など一切ないのであるか ら，「５００℃以下」と規定することに「臨界的意義」が存在しない ことは，被告らが主張し，審決の認めるとおりである。 しかし，加熱温度を「５００℃以下」と新たに設定することが，特 許法126条3項の「願書に添付した明細書，特許請求の範囲又は図 面（特許明細書等）に記載した事項の範囲内においてしなければなら ない」とする，いわゆる「新規事項の導入」に該当するか否かの判断 は，「新たに導入した技術的事項」が特許明細書等に記載された範囲 においてしたものか否かが判断されるべきであり，新たに導入された 技術的事項が「臨界的意義」を有するか否かとは，本来，関係のない ことである。「５００℃」という新たな数値の導入は，当初明細書等 の記載の範囲内においてなされたものでないことは明らかである。 さらに，上記Bについては，審決の上記認定は，上記実施例の各温 度が４６０℃を目標とした実測値であるから，４６０℃より高めの温 度，すなわち，ここでは「５００℃」を上限として温度範囲を減縮す ることは「５００℃」が「４６０℃」と比較して「多少高め」である から，新たな技術事項の導入に当たらないという趣旨に解される。 しかし，第１に，審決の上記認定によると，下限の温度を「３３０ ℃」として上限の温度を定めるに際し，「４６０℃」と「５００℃」 の差異である「４０℃」は「多少」の差異にすぎないことになるが， 下限の「３３０℃」から当初明細書に例示された上限の「４６０℃」 までの「１３０℃」の範囲の値からすれば，上記「４０℃」の値は約 ３０％に相当するものであり，このような値をもって「多少」とする 判断は，数値範囲を技術的事項とする発明の理解において，数値の意 味を軽視したもので妥当性を欠くというべきである。 第２に，当初明細書等の記載によると，実施例１ないし４の炉出口 粉粒体温度は４６０℃を目標とした実測値を示すものである（段落 【００３４】）。そして，実施例１ないし４は，４６０℃を目標とし た場合，炉出口粉粒体温度は４６０℃を中心に，上下に１０℃の変動 があることを示している。そうすると，当初明細書等の記載に基づく ならば，炉出口粉粒体温度を４６０℃を目標として本体炉内で加熱す る場合，測定値は，目標温度に対し上下に１０℃程度変動するもので あるといえる。そうすると，審決に基づくならば，炉出口粉体温度を ４６０℃を目標として本体炉内で加熱する場合，測定値は，目標温度 に対し少なくとも上方に４０℃程度変動することもあり得る解釈と なるから，当該「５００℃」は明らかに，当初明細書等の記載事項に， 新たな技術的事項を導入するものである。 第３に，審決は，「５００℃」が当初明細書等の記載事項に新たな 技術的事項を導入するものではないことのその他の理由として，運転 目標値に対して実測温度が若干高くなることも多いことを挙げてい る。しかし，本件発明の無水石膏の製造方法における石膏廃材すなわ ち二水石膏を加熱焼成してU型無水石膏が得られる反応は，発熱反応 ではなく吸熱反応であるから（甲２４），外部から熱を加えて石膏廃 材を処理する場合，通常，運転目標値に対して実測温度が目標値を中 心に平均的に上下にばらつくか，低くなる傾向を示し，実測温度が若 干高くなることが多くなる技術的根拠はない。 以上のとおり，運転目標値に対して実測温度が若干高くなることが 多くなることを根拠とした「５００℃」の訂正は，当初明細書等の記 載事項に新たな技術的事項を導入するものであるから，この点に関す る審決の判断は誤りである。 なお，被告らは，訂正事項ａ(ii)のうち，「３３０℃以上８４０℃ 以下」を「３３０℃以上５００℃以下」と訂正する点は，特定される 温度範囲に関する訂正事項であって，原告が主張するように，（本体 内部における）石膏廃材の加熱温度範囲についての訂正でないと主張 しているが，訂正事項ａ(ii)は，「本体の内部で石膏廃材を，・・・ ・℃以下に加熱」とするものであり，「本体の内部で該石膏廃材を， 該本体出口における粉粒体温度が・・・℃以下になるように加熱」と するものであるから，「（本体内部における）石膏廃材の加熱温度範 囲についての訂正」であることは明白であり，被告らの上記主張は失 当である。 ｃ 訂正事項ａのうち，「（ｖ）請求項５について，『該本体の内部で 加熱されながら』とあるのを，『該本体の内部で，該本体出口におけ る粉粒体温度が３３０℃以上５００℃以下になるように加熱されな がら』に訂正する」（以下「訂正事項ａ(ｖ)」という。）に関しては， 上記訂正事項 a (ii)と同様の訂正をするものであるから，上記訂正事 項ａ(ii)に関して述べたのと同様の理由により，訂正事項ａ（ｖ）は， 特許法134条の2第5項において準用する特許法126条1項，３ 項及び４項に違反するものであり，この点に関する審決の判断は誤り である。 (ｲ) 訂正事項ｂにつき 訂正事項ｂは，当初明細書等の段落【００１０】の「下部が逆円錐状 に形成された本体に石膏廃材を供給し，該本体の内部で該石膏廃材を３ ３０℃以上８４０℃以下に加熱しながら，前記燃焼ガスによって流動化 させ，生じた無水石膏を前記本体の内部から外部に排出する」を，「下 部が逆円錐状に形成された本体にナフタレンスルホン酸基を含む石膏 廃材を供給し，該本体の内部で該石膏廃材を，該本体出口における粉粒 体温度が３３０℃以上５００℃以下になるように加熱しながら，前記燃 焼ガスによって流動化させ，生じたU型無水石膏を前記本体の内部から 外部に排出する」と訂正する，というものであるが，これは特許請求の 範囲の上記訂正事項 a の訂正に伴い，対応する発明の詳細な説明の記載 を訂正するものであるから，上記訂正事項 a (ii)について述べた理由と 同じ理由により，特許請求の範囲の記載を実質的に変更するものであ り，また，特許明細書等の記載の範囲内においてなされたものでないか ら，特許法134条の2第5項において準用する特許法126条3項及 び４項に違反するものである。 (ｳ) 訂正事項ｃにつき 訂正事項ｃは，当初明細書の段落【００１１】の「ここで，石膏廃材 粉末による粉粒体層温度を３３０℃?８４０℃に制御し，２０分以上の 滞留時間を与えることで，」を，「ここで，本体出口の粉粒体温度を３ ３０℃以上５００℃以下に制御することで，」と訂正するものである。 しかし，「石膏廃材粉末による粉粒体層温度を３３０℃?８４０℃に 制御し」の「粉粒体層温度」は炉本体内部の温度をいうものであり，こ れを「炉本体出口」の温度に変更するものであるから，訂正事項ａ(ii) と同じであり，同訂正事項ａ(ii)の訂正に伴って訂正するものであるか ら，この訂正は実質的に特許請求の範囲を変更するものである。 また，上限の温度に関し，「８４０℃以下」を「５００℃以下」とす ることも，訂正事項ａ(ii)に関して述べたように，特許明細書等に記載 の範囲内のものではない。 さらに，当該訂正は，段落【００１１】における「２０分以上の滞留 時間を与える」の記載を削除している。しかし，当該記載の削除は，上 記訂正事項 a (ii)及び(ｖ)の訂正に関連して行われたものであり，訂正 前の本件発明１は当該滞留時間について言及していないものの，進歩性 判断における訂正後発明 1 及び５の作用効果（高純度U型無水石膏を得 ること）の説明に関し，滞留時間という要因を不要にするものであり， 訂正の前後において作用効果が共通ではないことから，新たな技術的事 項を導入するものであって，実質的に特許請求の範囲を変更するもので ある。 したがって，当該訂正は，特許法134条の2第5項において準用す る特許法126条3項及び４項に違反するものである。 (ｴ) 訂正事項ｄにつき 訂正事項ｄは，当初明細書等の段落【００１５】の「前記本体の内部 に供給された石膏廃材が本体内部で加熱されながら，前記燃焼ガスによ って流動化し，前記本体の内部から外部に無水石膏として排出される」 を，「前記本体の内部に供給されたナフタレンスルホン酸基を含む石膏 廃材が該本体内部で，該本体出口における粉粒体温度が３３０℃以上５ ００℃以下になるように加熱されながら，前記燃焼ガスによって流動化 し，前記本体の内部から外部にU型無水石膏として排出される。」と訂 正するものである。 訂正事項ｄの「該本体出口における粉粒体温度が３３０℃以上５００ ℃以下になるように加熱」する点は，既に，訂正事項 a において述べた ように，特許明細書等に記載された事項の範囲内においてなされたもの でなく，また，実質上特許請求の範囲を変更するものであるから，特許 法134条の2第5項において準用する特許法126条1項，３項及び ４項に違反するものである。 イ 取消事由２（訂正後発明についての進歩性に関する判断の誤り） 仮に本件訂正が適法であったとしても，審決は，訂正後発明１ないし５ と甲１発明との相違点に関する判断を誤り，甲１ないし甲９等の記載事項 から容易に想到できないと誤って判断したものであるから，審決は取り消 されるべきである。 (ｱ) 訂正後発明１について 次のとおり，審決は，訂正後発明１について，甲１発明との相違点 a 及び b（審決２２頁２２?３１行）に関する判断（審決２２頁下から２ 行?２７頁末行）を誤ったものである。 ａ 相違点ａについて 審決は，石膏（硫酸カルシウム二水和物）を加熱して無水石膏を得 る甲１において，加熱する石膏として単に石膏廃材を用いることに格 別の困難性は認められないとした上で，ナフタレンスルホン酸基を含 むものと含まないものもある多様な石膏廃材の中から「ナフタレンス ルホン酸基を含む石膏廃材」を直に特定することができるとまではい えないとし，その理由として，いずれの引用文献にも，本件訂正後の 明細書等（以下「訂正明細書等」という。）の段落【００１１】に記 載されるような，石膏の分解温度より低い８５０℃でナフタレンスル ホン酸基が分解して硫黄酸化物が発生してしまう課題認識について は記載されていない，としている。 しかし，相違点 a は，「本件発明１〔判決注，訂正後発明１のこと。 以下同じ〕では，本体に供給する石膏が『ナフタレンスルホン酸基を 含む石膏廃材』であるのに対し，甲第１号証発明では，石膏（硫酸カ ルシウム二水和物）であるものの，ナフタレンスルホン酸基を含む石 膏廃材であることの特定がされていない点」というものであるから， 当該相違点の評価は，まず，石膏廃材から無水石膏を製造すること， 及びナフタレンスルホン酸基を含む石膏がいずれも本件特許出願時 において周知である状況において，石膏廃材としてナフタレンスルホ ン酸基を含む石膏廃材を使用することに格別の創意工夫を要するか どうかが検討されるべきである。 これについては，審決は，いずれの引用文献にも「石膏の分解温度 より低い８５０℃でナフタレンスルホン酸基が分解して硫黄酸化物 が発生してしまう課題認識については記載されていない」ことを理由 に「甲第１号証発明において，ナフタレンスルホン酸基を含むものも， 含まないものもある多様な石膏廃材の中から『ナフタレンスルホン酸 基を含む石膏廃材』を直ちに特定することができるとまではいえな い。」としているので，この判断の妥当性について検討する。 (a) まず，原料である石膏廃材として「ナフタレンスルホン酸基を含 む石膏廃材」を選択することと，「石膏の分解温度より低い８５０ ℃でナフタレンスルホン酸基が分解して硫黄酸化物が発生」するこ ととは，何ら関係のないことである。 (b) また，ナフタレンスルホン酸基を含むものと含まないものもある 多様な石膏廃材の中から「ナフタレンスルホン酸基を含む石膏廃 材」を直に特定することについては，そもそも「ナフタレンスルホ ン酸基を含むものと含まないもの」の２種類の石膏廃材は，決して 「多様」ではなく，また２種類の廃材からナフタレンスルホン酸基 を含む石膏廃材を特定することは，当業者ならば直ちに特定できる か，あるいは極めて容易に特定できることであり，「ナフタレンス ルホン酸基を含む石膏廃材」を特定することに特許性がないことは 明らかである。 (c) さらに，そもそも，「８５０℃」という温度自体，本件訂正によ り加熱の上限温度を「５００℃以下」としたことにより，訂正後発 明１との関係においてはもやは格別の意味を有していないにもか かわらず，訂正前の温度を持ち出して特許性を検討すること自体， 判断を誤っているといわざるを得ない。 (d) 訂正後発明１が，仮に，「ナフタレンスルホン酸基に由来してＳ Ｏｘが発生することを回避するためにナフタレンスルホン酸基を 含まない石膏廃材を選択・使用する」，あるいは「加熱温度を８５ ０℃以下とする」ことを要件としている場合には，審決が問題とし ている「石膏の分解温度より低い８５０℃でナフタレンスルホン酸 基が分解して硫黄酸化物が発生してしまうという課題認識」が発明 を評価する材料となり得ることがあっても，訂正後発明１はそのよ 相違点 a を評価する上で， うなことを要件とするものではないから， 上記課題認識の有無を問題とすること自体誤りである。 (e) さらにまた，ナフタレンスルホン酸基の分解温度８５０℃以下で 石膏廃材を加熱処理することは，甲２，甲５，甲１４等の各文献に 示されているように周知の技術である。特に，甲２及び甲５にはナ フタレンスルホン酸基に由来という技術認識は記載されていない ものの，石膏廃材を加熱するとＳＯｘが発生するため，その加熱温 度の上限をそれぞれ８５０℃及び８００℃にするという課題認識 があったことが記載されている。 (f) 石膏廃材を加熱焼成した場合にＳＯｘを発生させないとする点に おいて，甲２及び甲５に記載された課題は訂正後発明１のそれと共 通しているといえる。 仮に共通する課題を意識したものといえないとしても，別の課題 認識と思考過程により導かれた甲２及び甲５記載の石膏廃材を加 熱する際の上限温度は，訂正後発明１の課題認識に基づく上限温度 ８５０℃と同じ結果に至っている。このことは訂正後発明１の発明 特定事項に至ることが当業者において容易であることを示してお り，したがって，課題認識の相違にかかわらず，訂正後発明１は進 歩性がないというべきである。 (g) そして，係る周知技術を用いた石膏廃材処理においてはもはやナ フタレンスルホン酸基の分解の問題は生じないから，「石膏の分解 温度より低い８５０℃でナフタレンスルホン酸基が分解して硫黄 酸化物が発生してしまう」という課題自体，本件特許出願時におい て陳腐化した課題であるというべきである。 そうすると，この観点からも，当該課題認識が記載されていない ことをもって，甲１発明において，「ナフタレンスルホン酸基を含 むものも含まないものもある多様な石膏廃材の中から『ナフタレン スルホン酸基を含む石膏廃材』を直ちに特定することができるとま ではいえない。」とした審決の判断は明らかに誤っているというべ きである。 (h) 以上から明らかなように，相違点 a は，無水石膏を製造するに当 たりナフタレンスルホン酸基を含む石膏廃材を原材料として使用 することが格別の困難性を伴うものか否かを，無水石膏の製造にお ける原材料の選択の観点から評価されれば足りるのである。 (i) 審決は，「更に，石膏廃材をナフタレンスルホン酸基を含む石膏 廃材に特定することによる効果についても，次の相違点 b について の検討において述べるとおり，本件発明１においては，石膏廃材が ナフタレンスルホン酸基の分解温度以上に加熱されないように石 膏廃材の加熱温度が特定されていることを考慮すれば，当業者が予 測し得るものということはできない。 （審決２３頁３０?３５行） 」 としている。 しかし，審決のこの点に関する判断も，上記(a) と同様に誤りで ある。すなわち，ナフタレンスルホン酸基を含む石膏廃材を選択し たことによる効果は訂正明細書等に全く記載されていないのであ るから，そもそも効果など存在しない。当該選択の結果ＳＯｘの発 生が抑制されるのではなく，加熱温度に上限を設けることでＳＯｘ の発生が抑制されるにすぎない。 相違点 a の検討に相違点 b に起因する効果を持ち出し，しかも， 訂正後発明１では石膏の加熱温度を「５００℃以下」と訂正されて いるにもかかわらず，「ナフタレンスルホン酸基の分解温度以上に 加熱されないように石膏廃材の加熱温度が特定されていることを 考慮すれば」とナフタレンスルホン酸基の分解温度の「８５０℃」 以下と特定されていた訂正前の発明の要件を持ち出して判断して いること自体が誤りである。 (j) 審決も認めるように，甲１発明において，無水石膏を得るために 加熱する石膏として石膏廃材を用いることに格別の困難性はない のであるから，ナフタレンスルホン酸基を含む石膏が本件発明出願 以前より周知であることからすれば（甲１１?１３），かかる材料 を選択することは単なる材料の選択にすぎない。 したがって，相違点 a は当業者が容易に想到し得たものであるか ら，審決の相違点 a に関する判断は誤りである。 ｂ 相違点ｂにつき (a) 審決は，訂正明細書等の段落【００１１】の記載から，訂正後発 明１における上記加熱温度範囲の上限は，石膏廃材を石膏自体の分 解温度はもちろんのこと，それより低いナフタレンスルホン酸基の 分解温度以上に加熱されないようにしながら，二水石膏を完全にU 型無水石膏化することができるという技術的意義を有するものと 認められる，としている。 しかしながら，訂正明細書等の段落【００１１】は，加熱温度範 囲に関し，「粉粒体層温度を３３０℃?８４０℃に制御し」が「本 体出口の粉粒体層温度を３３０℃?５００℃以下に制御すること で」と訂正されており，もはや，加熱温度範囲の上限温度に関して は，技術的意義を有する「ナフタレンスルホン酸基の分解温度（８ ５０℃以上）」とは直接に関係のない範囲となっているのであり， かつ二水石膏を完全にU型無水石膏化するという効果はあくまで も実施例に基づくものであるから，「ナフタレンスルホン酸基の分 解温度以上に加熱されないようにしながら，二水石膏を完全にU型 無水石膏化することができるという技術的意義を有する」は訂正後 発明１に基づくものではない。 したがって，上記認識は妥当性を欠くものである。 (b) 審決は，訂正明細書等の実施例に言及して，「いずれも９５質量 ％を超える高純度のものが得られている」としているが，９５質量 ％を超える高純度のもの（二水石膏）が得られるという効果は，あ くまでも実施例に基づく効果であり，以下に示すように，訂正後発 明１によって必ず得られる効果ではない。したがって，相違点 b を 検討するに当たり，実施例の効果のみを持ち出すことは誤りであ る。 すなわち，訂正明細書等の【表２】に示された実施例１ないし４ にはU型無水石膏が９５質量％以上の含有量で得られることが記 載されているが，これらは当該表に示されている各種条件（集塵ダ ストの炉への戻し率，炉出口粉粒体温度，炉出口ガス温度，平均滞 留時間，等）及び紙を除去して【表１】の粒度分布を有する石膏廃 材Ｍを使用することを満たして初めて得られるものであり，訂正後 発明１の加熱温度条件のみによって得られるものでないことは明 らかである。 なお，滞留時間に関する記載を削除する訂正は，訂正後発明１の 課題又は作用効果を「U型無水石膏が９５質量％以上の含有量で得 ること」に変更する意図でなされたものであり，本件発明を実質的 に変更するものであることは，前記ア(ｳ) において既に指摘したと ころであるが，被告らのこのような訂正の意図を看過した上に，実 施例に基づく作用効果を考慮してなされた審決の判断は極めて妥 当性を欠くものである。 (c) そもそも，相違点 b は，訂正後発明１では本体の内部で材料を「本 体出口における粉粒体温度が３３０℃以上５００℃以下となるよ うに」加熱するのに対し，甲１発明では「約３５０℃以上の温度に 保つように」加熱している点であり，この相違点 b の評価は，加熱 温度範囲の上限を「５００℃」とすることに創意工夫があるかどう かである。 無水石膏の製造において，訂正明細書等に記載されているナフタ レンスルホン酸基の分解温度である「８５０℃」以下で加熱するこ とは，甲２に「４００℃?８５０℃」と，甲５に「３００℃?８０ ０℃」と，甲１４（特開平６?１４２６３３号公報）に「３６０℃ ?６００℃」とそれぞれ記載されているように普通のことであるか ら，８５０℃でナフタレンスルホン酸基が分解して硫黄酸化物が発 生してしまうという課題認識があったかどうかにかかわりなく，上 限温度を「５００℃」に設定することに格別の技術的意義がない限 り，その温度範囲の設定に格別の創意工夫があったと認められるは ずはない。 ところで，審決は「５００℃」には臨界的意義がないことを認め ている（審決６頁１９，２０行）。そして臨界的意義がないことは， 上限温度が８４０℃であっても４６０℃であっても５００℃であ っても作用効果において顕著な差異がないことを意味している。 そうすると，「５００℃」に設定することに格別の技術的意義は なく，また，その温度範囲の設定に格別の創意工夫があったとは認 められないことは明らかである。 なお，審決は，上記各引用文献の記載は，訂正後発明１と加熱方 法が異なるから訂正後発明１の温度範囲を示唆することにはなら ない趣旨の理由を述べているが，硫黄酸化物の発生は材料の加熱温 度に左右されるのであるから，加熱方法に差異があるからといって 訂正後発明１の温度範囲を示唆することにならないとする審決の 認定は誤りである。 また，原料石膏からU型無水石膏を製造する場合の加熱範囲とし て，訂正後発明１の「３３０℃以上５００℃以下」とするとは，上 記甲２，甲５及び甲１４に示される温度範囲に含まれるという意味 において新規性はないが，この温度範囲が格別のものでないことは 甲２５（関谷道男「石膏」１７５頁・〔株〕技報堂）の記載，特に 「図 3.23 原料セッコウとその工業製品との相互関係」においてU 型無水石膏の焼成温度が４００℃ないし６００℃であることから も一層明らかである。 (d) 審決は，甲２，甲５及び甲１４に記載された温度範囲が装置内の いずれかの箇所で実測された温度でなく，石膏廃材自体が加熱され るべき温度範囲を意図して記載されたものとして解釈される余地 があるとしても，訂正後発明１の「５００℃」より高い上限値が記 載されているものであり，それらの上限値より更に下げるべき旨の 記載も示唆も見当たらない，としている。 しかしながら，前記ア(ｱ) ｂのとおり，訂正後発明１の上限温度 である「５００℃」は何ら根拠のない値であるばかりか，「５００ ℃以下」と設定することにより格別の技術的意義がないのであるか ら，甲２，甲５及び甲１４に記載の温度範囲に照らしても単なる数 値範囲の限定にすぎないというべきものである。 なお，仮に本件訂正で導入された「５００℃」が格別の技術的意 義を有するのであれば，この「５００℃」という数値の導入は，ま さに特許明細書等に記載された範囲においてなされたものでなく， また，特許請求の範囲を変更するものであり，特許法126条に違 反するから，本件訂正の適否における判断と矛盾することになる。 (e) 審決は，甲２，甲５及び甲１４には，実施例の９５重量％を超え る純度でU型無水石膏が得られることが記載されていない趣旨の ことを述べているが，実施例において得られるU型無水石膏の純度 はあくまでも各実施例に記載された焼成条件によって初めて得ら れるものであるから，相違点 b の評価において，上記純度の数値を 考慮することは妥当性を欠くというべきである。 (ｲ) 訂正後発明２ないし４について 審決は，訂正後発明２ないし４は訂正後発明１についてさらに特定事 項を加えたものであるから，これらの発明についても当業者が容易に発 明することができたものではない，と結論付けている。 しかし，前記(ｱ) のとおり，訂正後発明１に対する審決の判断には誤 りがあるから，訂正後発明２ないし４に対する審決の判断は前提におい て誤りである。 (ｳ) 訂正後発明５について 審決は，訂正後発明５は訂正後発明１ないし４を実施するためのシス テムに関する発明であって，訂正後発明１の特定事項と実質的に同じ特 定事項を有するものであるとし，甲１に記載されるシステムの発明と訂 正後発明５とを対比すると，訂正後発明１について述べた相違点ａない しｃと実質的に同じ相違点が含まれるとし，相違点ａ及びｂと同じ相違 点は容易に想到し得たものでないから，訂正後発明５は甲１ないし甲９ 及び周知事項に基づいて当業者が容易に発明することができたものと いうことはできない，としている。 しかしながら，前記(ｱ) のとおり，上記相違点ａ及びｂに関する審決 の判断は誤ったものであるから，訂正後発明５についての判断も同様に 誤ったものである。 ２ 請求原因に対する認否 請求原因(1)ないし(4) の各事実は認めるが，(5) は争う。 ３ 被告らの反論 審決の認定判断に誤りはなく，原告主張の取消事由はいずれも理由がない。 (1) 取消事由１に対し ア 原告の主張(ｱ) ａにつき (ｱ) この点に関する原告の主張は，そもそも，訂正前の「本体内部での該 石膏廃材を３３０℃以上８４０℃以下に加熱しながら」という構成要件 に対する訂正事項ａ(ii)の訂正の意味内容の認定判断を誤っている。 すなわち，訂正事項ａ(ii)は，原告が主張するように「石膏廃材の加 熱温度を本体内部で規定した」ものを「炉本体出口の温度で規定する」 訂正ではない。訂正事項ａ(ii)は，「本体の内部での石膏廃材の加熱」 について，単に「本体の内部で，該本体出口における粉粒体温度が・・ ・℃以下になるように加熱」とするものであるから，特許請求の範囲を 減縮するものである。 したがって，審決が，訂正事項ａ(ii)は特許請求の範囲の減縮を目的 としたものであると認定判断したことは適法であり，原告の主張は失当 である。 (ｲ) 原告は，(a) 石膏廃材の加熱温度を本体内部で規定することと炉本体 出口の温度で規定することとは，技術的な意味が異なること，(b) 当初 明細書等には，炉の本体内部の温度が製品排出部の温度と実質的に同じ とする記載は一切ないこと，(c) 当初明細書等の段落【００３０】の記 載からすれば，排出される製品は外部から導入される圧縮空気Ｃと接触 し，製品の排出用の外気である圧縮空気Ｃに直接さらされているので， これにより冷却されて製品の温度は本体内部の温度より低くなること は容易に推定できることを理由として，訂正事項ａ(ii)は，特許請求の 範囲を変更するものである，と主張する。 しかし，前記(ｱ)のとおり，訂正事項ａ(ii)は，「石膏廃材の加熱温 度を本体内部で規定した」ものを「炉本体出口の温度で規定する」訂正 ではない。さらにいえば，原告の主張は，訂正前の請求項１記載の「該 本体の内部で該石膏廃材を」と，訂正後の請求項１記載の「該本体の内 部で該石膏廃材を，該本体出口における粉粒体温度が」とを比較し，か かる訂正が特許法126条4項に規定する要件を満たさないと主張す るものであるが，特許法126条4項は，「実質上特許請求の範囲を拡 張し，又は変更するものであってはならない」旨を規定するものであり， 本来請求項毎に判断すべきものであって，請求項の一部の記載のみ，特 に，その構成要件の部分的な記載を抜き出して判断すべき性質のもので はない。仮に，原告の主張が前提とするように，訂正前の記載の「該本 体の内部で該石膏廃材を」を「該本体の内部で該石膏廃材を，該本体出 口における粉粒体温度が」に訂正する点に着目するとしても，少なくと も，温度範囲までを一括りとした構成要件毎に対比すること，すなわち， 訂正前の「該本体の内部で該石膏廃材を３３０℃以上８４０℃以下に加 熱し」と，訂正後の「該本体の内部で該石膏廃材を，該本体出口におけ る粉粒体温度が３３０℃以上５００℃以下になるように加熱し」とを対 比して実質的な拡張，変更であるかを判断すべきであるから，原告の主 張は請求項の記載を不当に切り出して判断したものであって，失当であ る。 また，当初明細書等の実施形態における，「１３ｄ 開口部」が 外気に直接さらされるか否かに関しても，エアーランス１４を介して導 入されたコンプレッサ６からの圧縮空気Ｃにより流動化されるのは，エ アーランス１４の下部出口付近に存在する原料であるから，「１３ｄ 開口部」と図示された個所は製品排出管の中にあって外気に直接さらさ れないことは明らかであって審決の理由に誤りはなく，原告の認定の方 が誤っているというべきである。なお，エアーランス１４の下部出口付 近に存在する原料が流動用の少量の圧縮空気Ｃにさらされていること は否定しないが，少量であるため熱容量の大きい粉粒体温度への影響は 極めて軽微である。 さらに，当初明細書等の段落【００１０】，【００１１】，【００３ ４】，【００３５】及び【表２】の記載からすれば，当初明細書等には， 少なくとも，炉出口粉粒体温度が４６０℃程度であれば，炉本体の内部 における石膏廃材が８４０℃を超えて加熱されないことが記載されて いると認められるから，訂正事項ａ(ii)によって，本体内部での石膏廃 材の加熱温度に関する特定が実質的に変更されるものでないことは明 らかである。より具体的には，当初明細書等に炉の本体内部の温度が製 品排出部の温度と実質的に同じとする明文はないが，当初明細書等にも 記載され，審決も述べるように，石膏廃材の粉粒体が本体内部で全体と して略均一な温度となった後に直接外気にさらされることなく排出さ れる本体出口における粉粒体の温度は，本体内部での加熱温度と実質的 に変わらないとみることができるのであるから，明文がないことは審決 の理由が誤っていることを理由付けるものではない。 さらにいえば，審決は「当該訂正事項によって，本体内部での石膏廃 材の加熱温度に関する特定が実質的に変更されるものでない。」と認定 しているのであって，この認定は，「炉の本体内部の温度が製品排出部 の温度と実質的に同じかどうか」とは別問題である。すなわち，訂正後 の「本体出口における粉粒体温度が３３０℃以上５００℃以下になるよ うに加熱」することで，訂正前の「該本体の内部で該石膏廃材を３３０ ℃以上８４０℃以下に加熱」することができるのであるから，原告の主 張する「当初明細書等には，炉の本体内部の温度が製品排出部の温度と 実質的に同じとする記載は一切なく」との主張は失当である。 以上のとおり，審決の認定判断は，当初明細書等の記載に基づき，明 細書の記載に沿って認定したものであるから，訂正事項ａ(ii)は，特許 請求の範囲を実質的に変更するものではなく，審決の認定に誤りは存し ない。 イ 原告の主張(ｱ) ｂにつき (ｱ) 当初明細書等の段落【００３４】，【００３５】，【表２】の各記載 からすれば，訂正前の特許請求の範囲の記載である「３３０℃以上８４ ０以下」の温度範囲内には「５００℃」という値の温度を含んでいるこ とは明らかであり，当初明細書等の発明の詳細な説明にも目標温度４６ ０℃に対する実際の測定温度が４５０℃ないし４７０℃の範囲で変動 していることが記載されている。 そうすると，当初明細書等には，「５００℃」という特定の数値が「明 記」されていなくとも，「３３０℃以上８４０℃以下」という記載中に， 「５００℃」という値自体は実質的に記載（明示）されているのである。 したがって，訂正事項ａ(ii)は「特許明細書等に記載された事項の範 囲内においてなされた」と認定判断した審決に誤りはない。 (ｲ) この点に関し，原告は，審決が訂正事項ａ(ii)が当初明細書等に記載 された事項の範囲内であると認定した理由を@ないしBに要約し，それ ぞれを論難しているが，それら原告の主張は，次のとおり，いずれも失 当である。 ａ 原告の要約する審決の理由@に関し 原告は，審決の理由@に対し，「本体出口において測定される温度 は，本体内部での加熱温度と実質的に変わらない」とすることに根拠 はないと主張する。 しかし，当初明細書等の段落【００３４】，【００３５】，【表２】 などの記載からすれば，審決が認定するとおり，訂正前の本件発明を 具体的に実施する際には，炉出口での粉粒体温度が特定温度となるよ うに運転条件を制御しているのであり，本件発明で使用しているいわ ゆるコニカルケトル炉における炉出口は外気に直接さらされる所で はないのであるから，比較的熱容量が大きい石膏廃材の粉粒体が本体 内で全体として略々均一な温度となった後で本体内部から排出され た直後の本体出口において測定される温度は，本体内部での加熱温度 と実質的に変わらないとみることができる。 したがって，原告の主張は，失当である。 ｂ 原告の要約する審決の理由Aに関し 原告は，審決の理由Aに対し，要するに特許法126条3項のいわ ゆる「新規事項の導入」に該当するか否かの判断は，「新たに導入し た技術的事項」が特許明細書等に記載された範囲においてしたものか 否かが判断されるべきであり，新たに導入された技術的事項が「臨界 的意義」を有するか否かとは，本来，関係のないことである旨主張す る。 しかし，訂正後の上限値である「５００℃」に臨界的意義は存しな いのであるから，訂正前の上限値である「８４０℃」よりも低い「５ ５０℃」に訂正することは，それによって，新たな臨界的意義を持た せるものでないことからすれば，新たな技術的事項を導入するもので ないことは明らかである。 そして，前記(ｱ)のとおり，「５００℃」という値自体は実質的に 当初明細書等に記載されているのであるから，特許明細書等の記載の 範囲内においてなされたものであることも明らかである。 したがって，原告の主張は，失当である。 ｃ 原告の要約する審決の理由Bに関し (a) 原告は，審決の理由Bに対し，「５００℃」という値は当初明細 書等には一切記載がなく，加熱温度の上限値を「５００℃」とする 事項の導入は，特許明細書等の記載事項に基づくものではなく，ま た，特許明細書等の記載事項から自明な事項でもないこと，また， 審決の上記認定は，上記実施例の各温度が４６０℃を目標とした実 測値であるから，４６０℃より高めの温度，すなわち，ここでは「５ ００℃」を上限として温度範囲を減縮することは「５００℃」 「４ が ６０℃」と比較して「多少高め」であるから，新たな技術的事項の 導入に当たらないという趣旨に解されるところ，審決は誤った判断 に基づくものである旨主張する。 しかし，前記(ｱ)のとおり，当初明細書等には，「５００℃」と いう特定の数値が「明記」されていなくとも，「３３０℃以上８４ ０℃以下」という記載中に「５００℃」という値自体は実質的に記 載されているのであるから，「５００℃」という数値について，特 許明細書等に一切記載がなく，自明でもないとする原告の主張は失 当である。 また，審決の上記認定は，単に「５００℃」が「４６０℃」と比 較して「多少高め」であるから新たな技術的事項の導入に当たらな いという趣旨ではない。実施例における「炉出口粉粒体温度（℃）」 が，「４６０℃」（実施例１），「４７０℃」（実施例２），「４ ５０℃」（実施例３），「４７０℃」（実施例４）が，それぞれ４ ６０℃を目標とした実測値であることを考慮すると，運転目標温度 （これを４６０℃に固定するのではなく，４６０℃から変動させる ことも通常行われる）に対して実測温度が若干高くなることも多い といえ，当初明細書等に具体的に記載された４６０℃より多少高め の温度を上限として温度範囲を減縮することは，特許明細書等のす べての記載を総合することにより導かれる技術的事項との関係に おいて，新たな技術的事項を導入するというものではないと認定し ているのである。 さらに，ここでの「４６０℃」は，本体出口における粉粒体温度 の運転目標温度の一例であり，「５００℃」は，本体出口における 粉粒体温度の実測値の上限であるため，原告が主張するように，単 純に比較することはできない。しかも，４６０℃を５００℃の記載 があることと同視しているのではなく，前述したとおり，５００℃ は実質的に記載されているのであるから，「５００℃」を採用する ことは合理的であって，何ら新たな技術的事項を導入するものでは ない。 したがって，原告の上記主張は，失当である。 (b) 原告は，第２の理由として，数値の変動幅は目標温度に対して１ ０℃程度と理解すべきであるところ，「５００℃」は実施例の目標 値から４０℃の変動を認めるものであり，明らかに特許明細書の記 載事項に新たな技術的事項を導入するものであること，第３の理由 として，本件発明の無水石膏の製造方法における石膏廃材すなわち 二水石膏を加熱焼成してU型無水石膏が得られる反応は，発熱反応 ではなく吸熱反応であるから，外部から熱を加えて石膏廃材を処理 する場合，通常，運転目標値に対して実測温度が目標値を中心に平 均的に上下にばらつくか，低くなる傾向を示し，実測温度が若干高 くなることが多くなる技術的根拠はなく，運転目標値に対して実測 温度が若干高くなることが多くなることを根拠とした「５００℃」 の訂正は，特許明細書等の記載事項に新たな技術的事項を導入する ものであると主張する。 しかし，審決における「これらが，４６０℃を目標とした実測値 であることを考慮すると，運転目標温度に対して実測温度が若干高 くなることも多いといえ」とは，本件発明の無水石膏の製造方法に おける石膏廃材すなわち二水石膏を加熱焼成してU型無水石膏が 得られる反応において，運転目標温度に対して実測温度が低くなる 場合に比較して高くなることが多いということではなく，運転目標 温度に対して実測温度が高低いずれかになり易いかではなく，単に そのような現象，すなわち，運転目標温度に対して実測温度が若干 高くなることも温度制御をする上で少なからず発生するであろう ことを意味しているのであって，原告が主張するように，常に高く なるというような認定がなされているものではないし，また，原告 が主張するように「１０℃程度」を超えると直ちに新たな技術的事 項を導入することになるという合理的理由も存しない。 したがって，原告の上記主張は，失当である。 ウ 原告の主張(ｱ) ｃにつき 原告の主張するとおり，訂正事項ａ（ｖ）は，請求項５において上記訂 正事項ａ(ii)と同様の訂正をするものである。 しかし，前記のとおり，訂正事項ａ(ii)に関する審決の認定判断に誤り はないから，訂正事項ａ（ｖ）に関する原告の主張は失当である。 エ 原告の主張(ｲ) につき 原告の主張するとおり，訂正事項ｂは，当初明細書等の段落【００１０】 において訂正事項ａ(ii)と同様の訂正をするものである。 しかしながら，訂正事項ａ(ii)について述べたとおり，上記訂正事項ａ (ii)に関する審決の認定判断に誤りはなく，原告の主張は失当である。 オ 原告の主張(ｳ) につき 訂正事項ｃは，訂正事項ａ(ii)及び(ｖ)の訂正に関連して行われたもの であり，前記のとおり，訂正事項ａ(ii)及び(ｖ)の訂正は適法であるから， 当該訂正は，特許法134条の2第5項において準用する特許法126条 ３項及び４項に違反するものでないことは明らかである。 また，原告は，訂正後発明１及び５の作用効果を説明する上で，滞留時 間という要因を不要とするものであり，訂正の前後において作用効果が共 通ではないから新たな技術的事項を導入するものであって，実質的に特許 請求の範囲を変更するものであると主張するが，訂正前後の本件発明１及 び５においてはいずれも「滞留時間」について言及していないのであるか ら，訂正後の明細書等の段落【００１１】において「滞留時間」に関する 記載を削除したとしても，実質的に特許請求の範囲を変更するものではな いことは明らかである。 なお，当初明細書の段落【００１１】においては「滞留時間」について 言及しているが，ここでは，「２０分以上の滞留時間を与えることで，硫 黄酸化物をほとんど発生させずに，石膏廃材中の二水石膏を完全にU型無 水石膏化できる。」と記載されているのであって，滞留時間を２０分以上 とする効果を述べているにすぎず，本件発明１及び５そのものの作用効果 を説明する上で，所定の長さ以上の滞留時間が必須であるとまで限定して いるものではない。以上により，原告の主張は，失当である。 (2) 取消事由２に対し 訂正後発明と甲１発明との相違点に関する審決の判断に誤りはなく，原告 の主張は失当である。 ア 訂正後発明１について (ｱ) 相違点ａ ａ 原告の主張ａ(b) につき 審決は，原告が主張するように，そもそも「ナフタレンスルホン酸 基を含むものと含まないもの」の２種類の石膏廃材が「多様」であり， 単にそのいずれかを選択したにすぎないと認定判断しているのでは なく，「ナフタレンスルホン酸基を含むものと含まないものもある多 様な石膏廃材」から「ナフタレンスルホン酸基を含むもの」を特定で きないと認定判断しているのであるから，原告の上記主張は，審決の 認定判断の理解を誤っており，失当である。 ｂ 原告の主張ａ(c) につき 訂正後発明１における上限温度「５００℃以下」とは，本体出口に おける粉粒体温度であって本体内部の温度ではない。本体出口におけ る粉粒体温度を「５００℃以下」とした場合でも，本体の内部では石 膏廃材を３３０℃以上８４０℃以下で加熱しているのであるから， 「８５０℃」という温度は，本件訂正により本体出口における粉粒体 温度の上限温度を「５００℃以下」としても，依然として訂正後発明 １との関係において格別の意味を有するのであり，原告の主張は失当 である。 ｃ 原告の主張ａ(d) につき 訂正後発明１は，「石膏の分解温度より低い８５０℃でナフタレン スルホン酸基が分解して硫黄酸化物が発生してしまう」という課題を 認識した上で，「該本体の内部で該石膏廃材を，該本体出口における 粉粒体温度が３３０℃以上５００℃以下になるように加熱しながら」 という構成要件を採用することで，ナフタレンスルホン酸基が分解し て硫黄酸化物が発生しない状態を維持しながら，高純度のU型無水石 膏を焼成することなどを可能としたのであるから，課題認識は相違点 ａを判断する上で重要な要素である。 ｄ 原告の主張ａ(f) につき 「石膏の分解温度より低い８５０℃でナフタレンスルホン酸基が分 解して硫黄酸化物が発生してしまうという課題」については甲２ない し甲５には記載も示唆もないのであり，前述したように，訂正後発明 １は，かかる課題を認識した上で，ナフタレンスルホン酸基が分解し て硫黄酸化物が発生しない状態を維持しながら，高純度のU型無水石 膏を焼成することなどを可能としたものであるのに対し，甲２及び甲 ５は石膏の分解温度から上限温度を述べているにすぎず，訂正後発明 １の上記課題認識のない状況で，「ナフタレンスルホン酸基を含むも のと含まないものもある多様な石膏廃材」から「ナフタレンスルホン 酸基を含むもの」を特定できないことに変わりはない。 したがって，原告の主張は，「多様な石膏廃材」から「ナフタレン スルホン酸基を含むもの」を特定できないとする審決の理由に対する 反論とはなっていない。 ｅ 原告の主張ａ(g) につき 本件特許出願前に「石膏の分解温度より低い８５０℃でナフタレン スルホン酸基が分解して硫黄酸化物が発生してしまう」という課題を 指摘した文献等はなく，原告が主張するように，同課題が陳腐化した 課題であるとは到底いえない。例えば，甲２に開示されているような ロータリキルン炉形式のものを用いた場合，訂正明細書等の【表２】 の比較例にも記載しているように，炉出口粉粒体温度を５００℃に制 御しても硫黄酸化物が発生しているのであり，まして，甲２に記載さ れているように８５０℃の熱風を吹き込んで加熱すれば硫黄酸化物 が発生することは上記比較例の結果からも明らかである。このこと は，甲２などでは，「石膏の分解温度より低い８５０℃でナフタレン スルホン酸基が分解して硫黄酸化物が発生してしまう」という課題認 識がなかったことの証左である。 ｆ 原告の主張ａ(h) につき 以上のとおり，相違点ａは，原告が主張するように，「無水石膏を 製造するに当たり，ナフタレンスルホン酸基を含む石膏廃材を原材料 として使用することが格別の困難性を伴うものかどうかを，無水石膏 の製造における原材料の選択の観点から評価されれば足りる」という ことではなく，繰り返しになるが，訂正後発明１は，「石膏の分解温 度より低い８５０℃でナフタレンスルホン酸基が分解して硫黄酸化 物が発生してしまうという課題を認識した上で，ナフタレンスルホン 酸基が分解して硫黄酸化物が発生しない状態を維持しながら，高純度 のU型無水石膏を焼成する」ことなどを可能としたという技術的意義 を有するのである。 したがって，相違点ａは，訂正後発明１の特許性を基礎付ける重要 な相違点である。 ｇ 原告の主張ａ(i) につき 多様な石膏廃材の内からナフタレンスルホン酸基を含む石膏廃材 を特定するに当たって，それによる効果を勘案することは当然のこと であって，相違点ｂにも起因する効果を持ち出すことは合理的であ る。そもそも，「ナフタレンスルホン酸基を含む石膏廃材」でなけれ ば，訂正後発明１の範囲外であることからすれば，訂正明細書等に記 載されている効果が，多様な石膏廃材の内から「ナフタレンスルホン 酸基を含む石膏廃材」を特定したことによるものであることは明らか である。 また，「５００℃以下」であることはナフタレンスルホン酸基の分 解温度以上に加熱されないようにすることであるから，石膏廃材の分 解温度を考慮することが訂正前の「８５０℃以下」を持ち出したこと にはならないのであって，原告の上記主張は失当である。 h 原告の主張ａ(j) につき 訂正後発明１は，前記のとおり，「石膏の分解温度より低い８５０ ℃でナフタレンスルホン酸基が分解して硫黄酸化物が発生してしま うという課題を認識した上で，ナフタレンスルホン酸基が分解して硫 黄酸化物が発生しない状態を維持しながら，高純度のU型無水石膏を 焼成することなどを可能としたものであって，単なる材料の選択にと どまるものではないから，原告の主張は失当である。 (ｲ) 相違点ｂ ａ 原告の主張ｂ(a) につき 訂正後発明１は，前記のとおり，石膏の分解温度（１０００℃）よ り低い８５０℃でナフタレンスルホン酸基が分解して硫黄酸化物が 発生してしまうという課題を認識した上で，「該本体の内部で該石膏 廃材を，該本体出口における粉粒体温度が３３０℃以上５００℃以下 になるように加熱しながら」という構成要件を採用することで，石膏 廃材が「ナフタレンスルホン酸基の分解温度（８５０℃以上）に加熱 されることを避け」（段落【００１１】），高純度のU型無水石膏を 低燃費で焼成することを可能にしたものである。 ここで，「本体出口における粉粒体温度が３３０℃以上５００℃以 下になるように加熱」することで，本体の内部で石膏廃材を３３０℃ 以上８４０℃以下に加熱することができるのであるから，「５００ ℃」という上限温度は「ナフタレンスルホン酸基の分解温度（８５０ ℃以上） 以上に加熱しないという技術的意義を有しているのである。 」 また，訂正後発明１の作用効果は，高純度のU型無水石膏を得るこ とができるということのみではなく，「本体出口の粉粒体温度を３３ ０℃?５００℃以下に」制御することで，ナフタレンスルホン酸基の 分解温度以上に加熱されないようにすることをも可能にし，これによ り，結果として，高純度のU型無水石膏を得ることができるというも のである。実施例の記載は，この点を裏付けるものであって，訂正後 発明１の上記技術的意義の存在を裏付けるために実施例の記載を参 酌することはなんら不合理ではなく，むしろ発明の技術的意義を正し く理解する上で必要なことである。 したがって，相違点ｂの判断において，訂正後発明１における加熱 温度範囲の上限は，石膏廃材を石膏自体の分解温度はもちろんのこ と，それより低いナフタレンスルホン酸基の分解温度以上に加熱され ないようにしながら，明細書の作用効果などの記載を参酌して，二水 石膏を完全にU型無水石膏化することができるという技術的意義を 有するものと認めた審決の判断は相当であって，原告の上記主張は失 当である。 ｂ 原告の主張ｂ(b) につき 上記のとおり，発明の技術的意義を理解する上で発明の詳細な説明 を参酌することは合理的であり，また，審決も，訂正後発明１は二水 石膏を完全にU型無水石膏化することができるという技術的意義を 有するものと認められることの裏づけとして，実施例の記載を参酌し ているにすぎないのであるから，原告の主張は失当である。 なお，原告はこれに関連して，本件訂正において，滞留時間に関す る記載を削除したことは，本件発明の課題又は作用効果を「U型無水 石膏が９５質量％以上の含有量で得ること」に変更する意図でなされ たものであるなどと論難している。 しかし，本件訂正において段落【００１１】の滞留時間に関する記 載を削除したのは，段落【００１１】の記載を訂正後の請求項１の記 載に合わせたものであって，原告が主張するような意図で行ったもの ではなく，原告の主張は失当である。 ｃ 原告の主張ｂ(c) につき 訂正後発明１の「３３０℃以上５００℃以下」の温度は，あくまで も本体出口における粉粒体温度であって，これによって本体の内部で 該石膏廃材を３３０℃以上８４０℃以下に加熱することができ，ナフ タレンスルホン酸基の分解温度以上に加熱されないようにしながら， 高純度のU型無水石膏を焼成することを達成することができるので あって，甲２，甲５及び甲１４に示される温度範囲とは技術的意味が 異なる。 また，甲２５に記載のU型無水石膏の焼成温度「４００℃?６００ ℃」は，単に一般的に「４００℃?６００℃」で焼成（原料自体の温 度が４００℃?６００℃になるように焼成）すればU型無水石膏が得 られることを開示するだけであり，「上記甲各号証が本件発明１にお ける温度範囲を示唆することにならない。」とする審決の認定に何ら 影響を与えるものではない。 さらに，例えば，甲２に開示されているようなロータリキルンのも のを用いた場合，訂正明細書等の【表２】の比較例にも記載している ように，炉出口粉粒体温度を５００℃に制御しても硫黄酸化物が発生 しているのである。 これに対し，訂正後発明１は，上限温度を「５００℃」に設定する ことで，石膏廃材が「ナフタレンスルホン酸基の分解温度（８５０℃ 以上）に加熱されることを避け」（段落【００１１】），高純度のU 型無水石膏を低燃費で焼成することを可能にしたという技術的意義 を有するのであるから，原告の主張に従っても上限温度を「５００℃」 に設定することに格別の創意工夫があったと認められるものである。 したがって，この点に関する原告の主張は，失当である。 ｄ 原告の主張ｂ(d) につき 前記(1) イのとおり，訂正後発明１の上限温度である「５００℃」 は根拠のあるものであり，「５００℃以下」と設定することにより格 別の技術的意義が存在するとともに特許法126条に違反するもの でもないから，原告の主張は失当である。 イ 訂正後発明２ないし４について 前記アのとおり，訂正後発明１に対する審決の判断に誤りはなく，訂正 後発明２ないし４に対する審決の判断にも誤りはない。 ウ 訂正後発明５について 前記アとおり，訂正後発明１に対する審決の判断に誤りはなく，したが って，訂正後発明１と甲１発明との同様な相違点ａないしｃを有する訂正 後発明５に対する審決の判断に誤りはない。 第４ 当裁判所の判断 １ 請求原因(1) （特許庁における手続の経緯），(2) （訂正前発明の内容）， (3) （本件訂正の内容），(4) （審決の内容）の各事実は，当事者間に争いが ない。 ２ 取消事由１（本件訂正の適否に関する判断の誤り）に対する判断 審決は，本件訂正は願書等に記載されている事項の範囲内の訂正であり，ま た，実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものでもないから適法である とし，一方，原告はこれを争うので，以下検討する。 (1) 本件各発明の意義 ア 当初明細書（本件特許公報，甲１０）には，次の記載がある。 ・ 特許請求の範囲としての【請求項１】ないし【請求項５】は前記第３， １(2) のとおり。 ・【発明の詳細な説明】 【発明の属する技術分野】 「本発明は，石膏廃材を焼成して無水石膏，特にU型無水石膏を焼成す る焼成システム及び無水石膏の製造方法に関する。 （段落 」 【０００１】） ・【従来の技術】 「近年の石膏製品の需要の増加とともに，建築物の解体等に伴う石膏廃 材の発生量が増加している。特に，建築現場等で発生する廃石膏ボード については，解体時の分別が困難であったり，リサイクル市場が不足し ているため，そのほとんどが埋立処分されている。 （段落 」 【０００２】） ・「廃石膏ボードを埋め立てる場合には，管理型の産業廃棄物最終処分場 で処分することとされている。そのため，処理コストの増大を招くとと もに，最終処分場の涸渇化の問題があり，石膏廃材の有効利用が期待さ れている。」（段落【０００３】） ・「そこで，本出願人は，ロータリーキルンを用い，炉内温度を焼点温度 ５００?１２００℃及び窯尻温度３００?９５０℃に制御して石膏廃 材を焼成することにより，U型無水石膏の含有量が８０重量％以上，半 水石膏とV型無水石膏の合計含有量が１０重量％以下，ＣａＯの含有量 が１０重量％以下，及び全有機炭素量０．３重量％以下の無水石膏類を 製造する技術を提案した（特許文献１参照）。」（段落【０００４】） ・「また，石膏廃材の有効利用に関する技術ではないが，特許文献２は， 無孔の底，材料のための入口及び出口，並びに逆円錐形の容器の底に隣 接して開いた熱ガス用の少なくとも１個の下方に向かって延設された 管を有する容器を含む粒状材料熱処理装置において，底を管の近くの底 で材料を制限するように形成し，ここで管から出る熱ガスが材料を加熱 し，循環させるようにした装置，いわゆるコニカルケトル炉を用いて無 水石膏を生成することの可能性に言及している。」（段落【０００５】） ・【発明が解決しようとする課題】 「しかし，原料に石膏廃材を用いて無水石膏を製造する場合には，従来 のロータリーキルン等を用いて焼成すると，局所的に過剰に加熱される 部分が生じ，石膏廃材に高性能減水剤として混和されているナフタレン スルホン酸基が分解されて硫黄酸化物が発生するおそれがあるという 問題があった。また，石膏自体も，１０００℃以上に加熱すると，石膏 が熱分解して大量に硫黄酸化物が発生するおそれがあるという問題が あった。」（段落【０００７】） ・「さらに，ロータリーキルン，コニカルケトル炉等，使用する炉の種類 に関わらず，製品として得られるU型無水石膏の純度を高く維持すると ともに，燃費を低減することも要請されていた。」（段落【０００８】） ・「そこで，本発明は，上記従来の技術における問題点に鑑みてなされた ものであって，硫黄酸化物の発生を大幅に抑制することができるととも に，高純度のU型無水石膏を得ることができ，燃費も低い無水石膏の製 造方法及び無水石膏焼成システムを提供することを目的とする。」（段 落【０００９】） ・【課題を解決するための手段】 「上記目的を達成するため，本発明は，無水石膏の製造方法であって， 内筒の内部で燃料を燃焼させて該内筒の下部の開口部から燃焼ガスを 噴出させ，前記内筒を囲繞し，下部が逆円錐状に形成された本体に石膏 廃材を供給し，該本体の内部で該石膏廃材を３３０℃以上８４０℃以下 に加熱しながら，前記燃焼ガスによって流動化させ，生じた無水石膏を 前記本体の内部から外部に排出することを特徴とする。」（段落【００ １０】） ・「本発明にかかる無水石膏の製造方法は，粉粒体を流動化状態として， 高温の燃焼ガスを接触させて加熱する間接加熱方式を採用し，粉粒体層 は完全混合状態となり，全体として略々均一な温度となり，局所的に過 剰に加熱されることはないため，原料としての石膏廃材粉末が，石膏自 体の分解温度（１０００℃以上）や，混和剤として含有されるナフタレ ンスルホン酸基の分解温度（８５０℃以上）に加熱されることを避ける ことができる。これによって，硫黄酸化物の発生を大幅に抑制すること ができる。ここで，石膏廃材粉末による粉粒体層温度を３３０℃?８４ ０℃に制御し，２０分以上の滞留時間を与えることで，硫黄酸化物をほ とんど発生させずに，石膏廃材中の２水石膏を完全にU型無水石膏化す ることができる。」（段落【００１１】） ・「前記内筒及び本体を備える無水石膏焼成炉から排出される燃焼ガスを 集塵して捕集されるダストの７０質量％以上を，該無水石膏焼成炉に戻 すことが好ましい。これによって，U型無水石膏純度の低い飛散ダスト を製品に混入することがなくなり，製品U型無水石膏の高純度（９５質 量％以上）が確保される。」（段落【００１２】） ・「前記集塵を２段階で行い，前段の集塵を集塵効率９０％以上のサイク ロンで行うことが好適である。サイクロンで可能な限り高温でダストを 回収することにより，U型無水石膏製造の熱量原単位を低減することが できる。」（段落【００１３】） ・「また，前記前段の集塵を行うサイクロンを，前記無水石膏焼成炉の直 上に配置し，該サイクロンにて集塵したダストを輸送機を介さずに直接 該無水石膏焼成炉に戻すこともできる。これによって，集塵したダスト を無水石膏焼成炉に戻す経路を最短とすることができ，熱量原単位をさ らに低減することができる。」（段落【００１４】） ・「さらに，本発明は，無水石膏焼成システムであって，下部に開口部を 備えた内筒と，該内筒を囲繞し，下部が逆円錐状に形成された本体とを 備え，前記内筒の内部で燃料が燃焼するとともに，前記開口部より燃焼 ガスが噴出し，前記本体の内部に供給された石膏廃材が該本体の内部で 加熱されながら，前記燃焼ガスによって流動化し，前記本体の内部から 外部に無水石膏として排出される無水石膏焼成炉と，該無水石膏焼成炉 から排出される燃焼ガスが導入され，該燃焼ガスに含まれるダストを第 一段階で集塵する，該無水石膏焼成炉直上に配置されたサイクロンと， 該サイクロンの排気を第二段階で集塵する集塵機とを備え，該サイクロ ン及び該集塵機で捕集したダストを該無水石膏焼成炉に戻す経路を有 することを特徴とする。これによって，上述のように，硫黄酸化物の発 生を大幅に抑制しながら，石膏廃材から高純度のU型無水石膏を低燃費 で製造することができる。」（段落【００１５】） ・【発明の実施の形態】 ・「次に，上記構成を有する無水石膏焼成システムの運転要領について， 図１乃至図３を参照しながら説明する。」（段落【００２８】） ＊【図１】（本件発明の無水石膏焼成システムの一実施の形態を示すフ ローチャート） ＊【図３】（図１の無水石膏焼成システムの無水石膏焼成炉の断面図） ・「内筒１２の内部に燃焼用空気管１９を介して，ルーツブロワ７から燃 焼用空気Ａを，燃料供給管１１を介して燃料としての都市ガスＧを供給 する。都市ガスＧが内筒１２の内部で燃焼し，内筒１２の内部は，約１ ２００℃に維持される。一方，ホッパ８，スクリューフィーダ９，スク リューコンベア１０から，原料供給管１６を介して本体１３の内部に石 膏廃材Ｍが供給される。本体１３の内部は，通常，４６０℃程度に制御 されるが，石膏廃材または製品の種類に応じて３３０℃乃至８４０℃の 範囲で変化させることができる。」（段落【００２９】） ・「内筒１２の内部で都市ガスＧが燃焼して発生した燃焼ガスは，スリッ ト１５から本体１３の最下部に噴出する。この噴出した燃焼ガスにより 石膏廃材Ｍが本体１３の下部３ａにおいて流動化し，燃焼ガスと熱交換 する。熱交換が完了すると，石膏廃材Ｍは，製品としての無水石膏Ｐに 変化し，エアーランス１４を介して導入されたコンプレッサ６からの圧 縮空気Ｃにより流動化され，開口部１３ｄから製品排出管２３を介して 系外に排出される。」（段落【００３０】） ・「まず，実施例１?３及び比較例１で用いる試験装置について，図５を 参照しながら説明する。この試験装置は，無水石膏焼成炉３１の本体３ ３に燃焼用空気Ａを供給するためのルーツブロワ４１と，本体３３に石 膏廃材Ｍを供給するための原料ホッパ４２，スクリューフィーダ４３， 及びスクリューコンベア４４と，本体３３に圧縮空気Ｃを供給するコン プレッサ４０と，本体３３からの燃焼ガス中のダストを集塵して集塵し たダストＤを本体３３または製品ホッパ４５に戻すためのサイクロン ３５，バグフィルタ３６，及びスクリューコンベア３８，３９と，集塵 後の燃焼ガスを大気に放出するファン３７とを備える。」（段落【００ ３３】） ＊【図５】（本件発明の無水石膏焼成システムの試験装置を示すフロー チャート） ・「無水石膏焼成炉３１は，下部のコーン部分の有効容積が１．５ｍ3 で， 上部円筒部分の内径が１，８５０ｍｍの試験用焼成炉である。また，無 水石膏焼成炉３１からの排気経路に設けられたサイクロン３５は，集塵 効率が９３％であって，これによって排気ガスの第一段集塵を行い，さ らにバグフィルタ３６にて第二段集塵を行った後，ファン３７を介して 排気ガスを大気に放出した。サイクロン３５及びバグフィルタ３６の捕 集ダストＤは，合流した後，所定の割合をスクリューコンベア３９を介 して無水石膏焼成炉３１に戻し，残部を製品に混入した。無水石膏焼成 炉３１の運転条件は，炉出口粉粒体温度が４６０℃，炉出口ガス温度が ４１０℃であり，時産０．７０ｔ?無水石膏／ｈを目標とした。」（段 落【００３４】） ・「次に，実施例４で用いる試験装置について説明する。この試験装置の 全体構成は，図１に示したシステムと同様であって，無水石膏焼成炉１ は，上述の図５に示した無水石膏焼成炉３１と同じものを用いた。無水 石膏焼成炉１の直上に集塵効率が９３％のサイクロン２を設け，炉排気 ガスの第一段集塵を行い，さらにバグフィルタ３にて第二段集塵を行っ た後，ファン４を介して排気ガスを大気に放出した。サイクロン２の捕 集ダストＤは，輸送機を介さず直接無水石膏焼成炉３１に全量戻した。 また，バグフィルタ３の捕集ダストＤも，スクリューコンベア５を介し て全量無水石膏焼成炉３１に戻した。無水石膏焼成炉１の運転条件は， 炉出口粉粒体温度が４６０℃，炉出口ガス温度が４１０℃であり，時産 ０．７０ｔ?無水石膏／ｈを目標とした。」（段落【００３５】） ・【表２】（段落【００４１】） ・【発明の効果】 「以上説明したように，本発明にかかる無水石膏の製造方法及び無水石 膏焼成システムによれば，石膏廃材を焼成して無水石膏，特にU型無水 石膏を焼成するにあたって，硫黄酸化物の発生を大幅に抑制することが でき，高純度のU型無水石膏を低燃費で焼成することができる。」（段 落【００４３】） イ 上記記載によると，本件各発明は，石膏廃材を焼成して製造されるU型 無水石膏の製造方法に関し，従来のロータリーキルン等を用いて焼成する と局所的に過剰に加熱される部分が生じ，石膏廃材に高性能減水剤として 混和されているナフタレンスルホン酸基が分解されて硫黄酸化物が発生 したり，また，１０００℃以上に加熱すると，石膏自体も熱分解して大量 に硫黄酸化物が発生するおそれがあるという問題があったことに対し，硫 黄酸化物の発生を大幅に抑制することができるとともに，高純度のU型無 水石膏を得ることができ，燃費も低い無水石膏の製造方法及び無水石膏焼 成システムを提供するために，内筒の内部で燃料を燃焼させて該内筒の下 部の開口部から燃焼ガスを噴出させ，前記内筒を囲繞し，下部が逆円錐状 に形成された本体に石膏廃材を供給し，該本体の内部で該石膏廃材を３３ ０℃以上８４０℃以下に加熱しながら，前記燃焼ガスによって流動化さ せ，生じた無水石膏を前記本体の内部から外部に排出するという間接加熱 方式を採用することによって，原料としての石膏廃材粉末が，石膏自体の 分解温度（１０００℃以上）やナフタレンスルホン酸基の分解温度（８５ ０℃以上）に加熱されることを避けることができ，それによって，硫黄酸 化物の発生を大幅に抑制しながら，石膏廃材中の二水石膏を完全にU型無 水石膏化することができる無水石膏の製造方法及び無水石膏焼成システ ム，という発明であることが認められる。 (2) 本件訂正の内容 平成２２年１月２２日付けでなされた本件訂正は，訂正事項ａないしｄを 内容とするものであり，その内容は前記第３，１(3) のとおりである。 (3) 訂正事項ａの適否について ア 訂正事項ａは，審決が認定するとおり，訂正事項(@)ないし(E)（審決 ４頁１７?３２行）を含むものであるが，(@)，(B)，(C)及び(E)の訂 正については当事者間に争いがないので，訂正事項ａ(ii)の適否について 検討する。 イ(ｱ) 訂正事項ａ(ii)は，「『該本体の内部で該石膏廃材を３３０℃以上８ ４０℃以下に加熱しながら』とあるのを，『該本体の内部で該石膏廃材 を，該本体出口における粉粒体温度が３３０℃以上５００℃以下になる ように加熱しながら』に訂正する。」というものである。 当該訂正事項は，本体の内部での石膏廃材の加熱に関し，「該本体の 内部で該石膏廃材を３３０℃以上８４０℃以下に加熱」とあるのを「該 本体出口における粉粒体温度が３３０℃以上５００℃以下になるよう に加熱」というように温度の測定位置と設定温度の範囲を限定するもの であるから，特許請求の範囲の減縮を目的とするものと認められる。 (ｲ) ところで，願書に添付した明細書，特許請求の範囲又は図面の訂正は， 願書に添付した明細書，特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲 内においてしなければならず（特許法134条の2第5項，126条３ 項），また，上記規定中，「願書に添附した明細書又は図面に記載した 事項の範囲内」とは，明細書又は図面のすべての記載を総合することに より導かれる技術的事項であり，訂正が，このようにして導かれる技術 的事項との関係において，新たな技術的事項を導入しないものであると きは，当該訂正は，「明細書又は図面に記載した事項の範囲内」におい てするものということができるというべきである（なお，平成６年改正 前の特許法17条2項にいう「明細書又は図面に記載した事項」に関す る知財高裁平成１８年（行ケ）第１０５６３号平成２０年５月３０日特 別部判決参照）。そして，上記明細書又は図面のすべての記載を総合す ることにより導かれる技術的事項は，必ずしも明細書又は図面に直接表 現されていなくとも，明細書又は図面の記載から自明であれば，特段の 事情がない限り，新たな技術的事項を導入しないものであると認めるの が相当である。 (ｳ) そこで，訂正事項ａ(ii)が「明細書又は図面に記載した事項の範囲内」 でなされたか否かについて検討する。 ａ まず，訂正前の「該本体の内部で該石膏廃材を３３０℃以上８４０ ℃以下に加熱しながら」との事項は，本体内部における石膏廃材の加 熱温度を３３０℃以上８４０℃以下という範囲に数値を限定するも のであるところ，上記当初明細書の記載（本件特許公報，甲１０）に よれば，上記数値限定の意味は，原料としての石膏廃材粉末からU型 無水石膏を生成するために必要とされる温度（３３０℃以上）を下限 とし，石膏自体の分解温度（１０００℃以上）や石膏廃材に混和剤と して含有されるナフタレンスルホン酸基の分解温度（８５０℃以上） に加熱されることを避けるための温度（８４０℃以下）を上限とする ことによって，硫黄酸化物の発生を大幅に抑制するための数値限定で あると認められる（段落【００１１】参照）。したがって，上記数値 限定事項は，本件各発明において，硫黄酸化物の発生を大幅に抑制す るという効果を奏するために「明細書又は図面によって開示された技 術的事項」であると認められる。 そこで，このような技術的事項を，訂正事項ａ(ii)の「該本体の内 部で該石膏廃材を，該本体出口における粉粒体温度が３３０℃以上５ ００℃以下になるように加熱しながら」と訂正することが，上記技術 的事項との関係において，「新たな技術的事項を導入しないものであ る」と認められるか否かが問題となる。 ｂ ところで，本体内部の温度限定を「出口における粉粒体温度」と限 定することは，本体内部の温度限定を上位概念と捉えれば，当初明細 書等の実施例で記載されるとおり，本体内部に属する出口における粉 粒体温度に限定するものにすぎず，もともと当初明細書等の実施例に おいては，【表２】において炉出口粉粒体温度で結果が表示されてい るように，本体内部の温度の特定は炉出口における粉粒体温度でなさ れていることを考慮すると，「出口における粉粒体温度」で限定する ことは，当初明細書等の記載から自明である技術的事項と認められる から，上記訂正をもって，「新たな技術的事項を導入しないもの」と 認めるのが相当である。 ｃ この点に関し，原告は，前記第３，１(5) ア(ｱ) ａのとおり，当初 明細書等には，炉の本体内部の温度が本体出口部の温度と実質的に同 じとする記載は一切ないことや当初明細書等の段落【００３０】の記 載を根拠に，石膏廃材の加熱温度を本体内部で規定することと，炉本 体出口の温度で規定することとは技術的な意味が異なると主張する。 しかし，当初明細書等に記載された実施例においては，炉出口粉粒 体温度が４６０℃になることを目標とした旨記載され（段落【００３ ４】，【００３５】），当初明細書等の【表２】には，実施例におけ る「炉出口粉粒体温度（℃）」が，「４６０℃」（実施例１），「４ ７０℃」（実施例２），「４５０℃」（実施例３），「４７０℃」（実 施例４）であったことが記載されていることから，本件各発明を具体 的に実施する際には，炉出口（本体出口）での粉粒体温度によって設 定温度を特定して運転条件を調整しているものと認められ，訂正前の 「本体内部で・・・以下に加熱しながら」との記載も必ずしも炉出口 以外の本体内部における最高温度領域の温度を測定することに限定 していると解することはできないこと，当初明細書等に記載された実 施例の加熱炉の炉出口とは，例えば，図３の記載によれば，「３３ 本 体」から「２３ 製品排出管」に通じる「１３ｄ 開口部」として図 示された箇所に相当すると認められるところ，本件各発明において は，その構造上当該箇所が「２３ 製品排出管」の中にあって外気に 直接さらされる所ではないこと，石膏廃材Ｍは，噴出した燃焼ガスに より本体１３の下部３ａにおいて流動化し，燃焼ガスと熱交換し，熱 交換が完了すると製品としての無水石膏Ｐに変化し，エアーランス１ ４を介して導入されたコンプレッサ６からの圧縮空気Ｃにより流動 化されて，開口部１３ｄから製品排出管２３を介して排出されること （段落【００３０】）も考慮すれば，エアーランス１４を介して導入 されたコンプレッサ６からの圧縮空気Ｃによって，炉出口付近の石膏 廃材の温度が多少低くなることを考慮しても，本体出口において測定 される温度は，本体内部での加熱温度と実質的には変わらないとみる ことが可能であるから，新たな技術的事項を導入したものとはいえ ず，この点に関する原告の主張は採用することができない。 (ｴ) 次に「３３０℃以上５００℃以下になるように加熱しながら」と訂正 する点について検討する。 ａ 訂正事項ａ(ii)の「・・・該石膏廃材を，・・・粉粒体温度が３３ ０℃以上５００℃以下になるように加熱しながら」という事項は，本 体内部での石膏廃材の加熱に関し，粉粒体温度を３３０℃以上５００ ℃以下になるように数値範囲を限定するものであるから，訂正前の数 値限定の範囲の上限値を「８４０℃以下」から「５００℃以下」に変 更するものである。 ところで，上記「５００℃」という値は当初明細書等に明示的に表 現されているものではない。そこで，上記「５００℃」という値が， 当初明細書等に記載された事項から自明であるといえるかどうかが 問題となる。 しかし，「５００℃」という特定温度は，もともと訂正前の「３３ ０℃以上８４０℃以下」の温度の範囲内にある温度であるから，上記 「５００℃」という温度が当初明細書等に明示的に表現されていない としても，硫黄酸化物の発生抑制のための温度として分解温度以下で ある以上他の温度と異なることはなく，実質的には記載されているに 等しいと認められること，当初明細書等に記載された実施例において は，炉出口粉粒体温度が４６０℃になることを目標とした旨が記載さ れ（段落【００３４】，【００３５】），当初明細書等の【表２】に は，実施例における「炉出口粉粒体温度（℃）」が，「４６０℃」（実 施例１），「４７０℃」（実施例２），「４５０℃」（実施例３）， 「４７０℃」（実施例４）であったことが記載されていることからす れば，具体例の温度自体にも開示に幅があるといえること，したがっ て，具体的に開示された数値に対して３０℃ないし５０℃高い数値で ある近接した５００℃という温度を上限値として設定することも十 分に考えられること，また，訂正後の上限値である「５００℃」に臨 界的意義が存しないことは当事者間に争いがないのであるから，訂正 前の上限値である「８４０℃」よりも低い「５００℃」に訂正するこ とは，それによって，新たな臨界的意義を持たせるものでないことは もちろん，５００℃付近に設定することで新たな技術的意義を持たせ るものでもないといえるから，「５００℃」という上限値は当初明細 書等に記載された事項から自明な事項であって，新たな技術的事項を 導入するものではないというべきである。 ｂ この点に関し，原告は，前記第３，１(5) ア(ｱ) ｂのとおり，当初 明細書等の記載によると，実施例１ないし４の炉出口粉粒体温度は目 標値である４６０℃を中心に，上下に１０℃の変動があることを示し ているにすぎないにもかかわらず，審決の判断に基づくならば，炉出 口粉粒体温度を４６０℃を目標として本体炉内で加熱する場合，「５ ００℃」という測定値は，目標温度に対し少なくとも上方に４０℃程 度変動することもあり得る解釈となること，本件各発明の無水石膏の 製造方法における石膏廃材を加熱焼成してU型無水石膏が得られる 反応は発熱反応ではなく吸熱反応であり，外部から熱を加えて石膏廃 材を処理する場合，通常，運転目標値に対して実測温度が目標値を中 心に平均的に上下にばらつくか低くなる傾向を示すのであって，実測 温度が若干高くなることが多くなるという技術的根拠はないから，運 転目標値に対して実測温度が若干高くなることが多くなることを根 拠とした「５００℃」の訂正は，特許明細書等の記載事項に新たな技 術的事項を導入するものである旨主張する。 しかし，新たな技術的事項を導入しないものか否かを判断するに際 しては，「５００℃」という特定の温度が当初明細書等を総合した場 合に自明といえるか否かが問題となるのであって，本件各発明におい ては，もともと「５００℃」という特定の温度には何ら技術的意義は ないのであるから，「５００℃」という特定の温度が当初明細書等に 記載された実施例の目標温度や実測値と比較して多少高めの温度で あったとしても，臨界的意義はもちろん技術的意義の面でも実質的な 差はない当初明細書等の「３３０℃以上８４０℃以下」という数値の 範囲内である限り，「５００℃」の訂正は，特許明細書等の記載事項 に新たな技術的事項を導入するものとはいえないというべきであり， この点に関する原告の主張は採用することができない。 (ｵ) 小括 以上のとおり，訂正事項ａ(ii)は，当初明細書等に記載した事項の範 囲内であって，かつ，実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するもの と認めることはできない。 ウ 訂正事項ａ（D）は，請求項５において上記訂正事項ａ(ii)と同様の訂 正をするものである。 したがって，訂正事項ａ(ii)と同様の理由により，訂正事項ａ（D）は， 請求の範囲を減縮するものであり，当初明細書等に記載した事項の範囲内 の訂正であって，かつ，実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するもの とは認められない。 (4) 訂正事項ｂの適否について 訂正事項ｂは，当初明細書等の段落【００１０】において本件訂正事項ａ と同様の訂正をするものである。 したがって，訂正事項ｂは，訂正事項ａと同様の理由により，当初明細書 等に記載した事項の範囲内の訂正であって，かつ，実質上特許請求の範囲を 拡張し又は変更するものと認めることはできない。 (5) 訂正事項ｃの適否について 訂正事項ｃは，当初明細書等の段落【００１１】において訂正事項ａと同 様の訂正をするものである。 したがって，訂正事項ｃは，訂正事項ａと同様の理由により，当初明細書 等に記載した事項の範囲内の訂正であって，かつ，実質上特許請求の範囲を 拡張し又は変更するものと認めることはできない。 (6) 訂正事項ｄの適否について 訂正事項ｄは，当初明細書等の段落【００１５】において訂正事項ａと同 様の訂正をするものである。 したがって，訂正事項ｄは，訂正事項ａと同様の理由により，当初明細書 等に記載した事項の範囲内の訂正であって，かつ，実質上特許請求の範囲を 拡張し又は変更するものと認めることはできない。 (7) まとめ 以上のとおり，訂正事項ａないしｄの訂正はいずれも適法であって，同旨 の審決の判断に誤りはない。 ３ 取消事由２（訂正後発明についての進歩性に関する判断の誤り）に対する判 断 (1) 訂正後発明１について ア(ｱ) 甲１発明の意義 ａ 甲１（特公昭６０?９８５２号公報）には，次の記載がある。 ・「特許請求の範囲 １ 粉末化されたあるいは粒状の石膏，または他の粒状材料を熱処 理するための装置であって，使用に際しての前記材料により接触さ れる無孔底を有する容器，熱処理されるべき前記材料のための入 口，熱処理された材料のための出口，および少なくとも一本の下方 に延びて熱ガスを通すようになされて前記底に隣接して容器の内 側に開口した加熱管を具備し，前記容器は前記出口によって決まる 材料の高さでの容器の横断面積よりも小さな面積の底を提供すべ く少なくとも使用中の材料で占められる区域の側壁が傾斜せしめ られており，前記容器の前記底は前記底における粒状材料を前記開 口の近傍に制限すべく前記加熱管の前記開口に関して形状づけら れ，寸法づけられかつ配置されておりそして前記容器の前記底は前 記加熱管の前記開口の底端より下に設けられた少なくとも一個の 内部突起を有し，しかして，操作中前記加熱管の下方部分から出る 熱ガスが熱処理された材料の堆積を阻止すべく前記底を横切って 連続的に前記材料を掃引するようになしたことを特徴とする粉末 化されたあるいは粒状の石膏，または他の粒状材料を熱処理するた めの装置。 ２ ＜略＞ ３ 使用中の材料によって占められる容器の前記区域は逆円錐形 であり，かかる容器の垂直軸線に実質的に沿って前記加熱管が配置 されている特許請求の範囲第１項または第２項に記載の粉末化さ れたあるいは粒状の石膏，または他の粒状材料を熱処理するための 装置。４ 前記加熱管はその下方部分の側壁に付加的に複数のガス 分配孔を有する特許請求の範囲第１項から第３項のいずれか一項 に記載の粉末化されたあるいは粒状の石膏，または他の粒状材料を 熱処理するための装置。 ５ 前記加熱管は上方部分で燃料供給源および酸素含有ガス源に 接続されうるものであり，かつ前記加熱管は燃料バーナーを含む特 許請求の範囲第１項から第４項のいずれか一項に記載の粉末化さ れたあるいは粒状の石膏，または他の粒状材料を熱処理するための 装置。」 ・【発明の詳細な説明】 ・「本発明は粒状材料特に鉱物を熱処理するための，特に石膏（水和 硫酸カルシウム）をV焼するための装置に関する。」（第３欄２２ ?２４行） ・「本発明によれば，使用中容器含有物によって接触せしめられる無 孔底および熱処理される材料の入口，熱処理された材料の出口，お よび底に隣接して容器の内面に向いて開いた，熱ガスの通路のため に設けられた少なくとも一つの下方に向って延びた加熱管を有す る容器からなる粒状材料を熱処理するための装置を提供し，この容 器の底は管開口近くで底で材料を制限させるように形作り，これに よって使用中加熱管の下方部分から出る熱ガスは，底で材料を加熱 と同時に循環させ，これによって容器の内容物全部を実質的に攪拌 し加熱するようにする。」（第４欄１８?２９行） ・「容器を連続式で運転するとき，材料例えば硫酸カルシウム二水和 物のためのバルブ付入口を設け，熱処理された材料のためのバルブ 付出口または溢流装置を設けるのが好ましい。容器への材料の供給 または容器からの材料の放出を制御するため，適切な任意の方法を 使用できる。」（第７欄４?９行） ・「本発明の装置中での処理材料の流動化は，それが主として流入ガ スによるにしろあるいは放出された蒸気による自己流動化による にしろ，内容物の急速かつ効率的な混合に寄与し，熱伝達に寄与す る，そしてまた連続運転中生成物の放出さえも容易にする。この使 用のために容器には機械的攪拌機を備える必要はない。」（第７欄 ３４?４０行） ・「主として有効V焼温度を制御することによってこの装置で半水プ ラスターおよび無水プラスターまたはその混合物の製造を行うこ とができる。例えば処理すべき硫酸カルシウムの温度を約１４０? １７０℃に保つならば，硫酸カルシウム二水和物からの主たるV焼 生成物は半水石膏である，十方（判決注：「一方」の誤記と認めら れる。）更に高い温度，約３５０℃以上の温度では主生成物は無水 硫酸カルシウムである。」（第８欄１４?２１行） ・「燃料ガス例えば天然ガスはパイプ１６を介して，容器中の材料の 高さ１０に近い所で管６内に配置したノズル混合形のガスバーナ ー１７に供給する。空気はファン１９から空気パイプ１８を通って このバーナーに別々に供給する。ノズル混合バーナー１７を通る燃 料／空気混合物はスパーク針２０で点火され，燃焼による熱いガス 状生成物は管中を下方に向って通過し，その開放端１３および孔１ ４を通って出る。」（第９欄２７?３５行） ・ 第１図（本発明による円錐V焼容器の略図） ｂ 上記記載によると，甲１発明は，石膏をV焼するための装置に関し， 主として有効V焼温度を制御することによってこの装置で半水プラ スター及び無水プラスター又はその混合物の製造を行うために，加熱 管内に配置した燃料バーナーを通る燃料／空気混合物に点火し，該加 熱管の下方部分の開口及びガス分配孔から燃焼による熱ガスを出し， 該加熱管は容器の垂直軸線に実質的に沿って配置された少なくとも 一本の下方に延びて熱ガスを通すようになされて容器の底に隣接し て容器の内側に開口したものであり，該容器は熱処理された材料のた めの出口によって決まる材料の高さでの容器の横断面積よりも小さ な面積の底を提供すべく，少なくとも使用中の材料で占められる区域 が逆円錐形であり，該容器へ熱処理されるべき材料としての石膏を供 給し，前記石膏を約３５０℃以上の温度に保つように，加熱管の下方 部分から出る熱ガスで容器の底で加熱と同時に循環させて前記石膏 の流動化を起こさせ，前記熱処理された材料として生じた無水石膏を 容器の内部から外部に排出する無水石膏の製造方法という発明であ ると認められる。 (ｲ) 甲２発明の意義 ａ 甲２（特開２００２?８６１２６号公開公報）には，次の記載があ る。 ・「【特許請求の範囲】 【請求項１】 セメントクリンカ焼成用のサスペンションプレヒー タに石膏ボード廃材を給養し，下部から４００?８５０℃の熱風を 吹き込むことにより，石膏ボード廃材の石膏と石膏に付着している 紙とを同時に焼成する方法。」 ・【発明の詳細な説明】 ・【発明の属する技術分野】 「本発明は，石膏ボード廃材の焼成方法に関するものである。 （段 」 落【０００１】） ・【従来の技術】 「石膏ボード廃材は，石膏ボードおよびセメント原料への再利用が 期待されているが，ボード表面をおおう質量比７?１０%の紙の混 入が問題となる。この紙の混入を防ぐ手段として，石膏ボード廃材 の紙と石膏を機械的に分離し，石膏を回収する方法および石膏ボー ド廃材を焼成して石膏を回収する方法がある。 （段落 」 【０００３】） ・「前者の方法で回収した二水石膏は，セメント用の二水石膏として 使用した場合，セメントの強度低下および凝結時間が遅延し，分離 した紙の処分が問題となる。後者は，通常の手段で焼成すると，石 膏の分解によるＳＯｘの発生と，紙の燃焼によるＳＯｘの発生が問 題となる。」（段落【０００４】） ・【発明が解決しようとする課題】 「石膏ボード廃材から石膏を回収するために，石膏ボード廃材に含 まれる紙を除去する手段として，焼成による方法が考えられるが， ロータリーキルンとグレードクーラの組合せでは，石膏微粉の存在 のため温度コントロールが難しく，石膏の分解が起こらない温度ま で加熱し，紙を完全燃焼させることは困難である。したがって，本 発明の目的は，石膏ボード廃材からリサイクル石膏を得る方法を提 供することである。」（段落【０００５】） ・【課題を解決するための手段】 「上述した本発明の目的は，セメントクリンカ焼成用のサスペンシ ョンプレヒータに石膏ボード廃材を給養し，下部から４００?８５ ０℃の熱風を吹き込むことにより，石膏ボード廃材の石膏と石膏に 付着している紙とを同時に焼成し，焼成された石膏をロータリーキ ルンで冷却することにより達成される。」（段落【０００６】） ・【発明実施の形態】 「石膏ボード廃材に含まれる紙を完全燃焼させるために必要な温度 は，紙の形態，粒度および燃焼時間によって異なるが，４００?７ ００℃の範囲であり，紙の耐火度が低い程，粒度の細かい程，燃焼 時間が長い程，低温で完全燃焼させることができる。」（段落【０ ００８】） ・「一方，加熱による石膏の分解は，約９５０℃から起こることが知 られており，石膏ボード廃材を石膏の分解が起こらない温度まで加 熱し，紙を完全に焼成するためには，石膏ボード廃材焼成時の温度 を４００?８５０℃の範囲に維持する必要がある。」（段落【００ ０９】） ・「本発明における石膏ボード廃材の焼成方法は，ロータリーキルン 以外の熱風源において発生させた４００?８５０℃の熱風をサス ペンションプレヒータ下部に導入し，石膏ボード廃材をサスペンシ ョンプレヒータに給養することにより，紙を完全に燃焼させると共 に，石膏の分解によるＳＯｘの発生を抑制し，かつロータリーキル ンにおいて回収物の冷却を行うものである。」（段落【００１０】） ・「実施例および比較例の焼成品を粉末Ｘ線回折で確認したところ， 実施例１?３および比較例１，３の石膏の形態は，全て無水石膏で あり，比較例２については，その殆どが無水石膏であったが，極微 量の半水石膏も含まれていた。焼成品の粉末Ｘ線回折の結果より， 上記表１における焼成品の強熱減量は，未燃焼の紙分の炭化に伴う ものであると考えられ，強熱減量の値は，焼成品に含まれる不完全 燃焼の紙の割合を知る目安になるものと考えられる。」（段落【０ ０１８】） ｂ 上記記載によると，甲２発明は，石膏ボード廃材からリサイクル石 膏を得る方法として，石膏を通常の手段で焼成すると石膏の分解によ るＳＯｘが発生するため，石膏ボード廃材を石膏の分解が起こらない 温度まで加熱し，紙を完全に焼成するためには，石膏ボード廃材焼成 時の温度を４００ないし８５０℃の範囲に維持する必要があるとの 認識の下，その解決手段として，セメントクリンカ焼成用のサスペン ションプレヒータに石膏ボード廃材を給養し，下部から４００ないし ８５０℃の熱風を吹き込むことにより，石膏ボード廃材の石膏と石膏 に付着している紙とを同時に焼成し，その結果，無水石膏を得ること ができるという発明であることが認められる。 (ｳ) 甲５発明の意義 ａ 甲５（特開平１０?２３０２４２号公開公報）には，次の記載があ る。 ・【特許請求の範囲】 「【請求項１】 石膏ボード用原紙が付着している石膏ボード廃材 を間接加熱処理して，ＳＯｘを発生させることなく石膏ボード用原 紙を灰化させるとともに，該廃材から発生する排煙を燃焼用空気と して用い臭気を除去することを特徴とする石膏ボード廃材の処理 方法。 【請求項２】 間接加熱処理温度が３００?８００℃である請求項 １に記載の石膏ボード廃材の処理方法。」 ・【発明の詳細な説明】 ・「以上の燃焼処理における温度及び時間について説明する。廃材の 加熱温度としては原紙部分を灰化させ得て，且つ石膏が熱分解して 亜硫酸ガス（ＳＯｘ）を発生しない温度であればよい。その温度は 加熱処理する廃材量や滞留時間によっても異なるが，焼成品の出口 温度として通常は３００?８００℃，好ましくは５００?６００℃ である。３００℃に達しない温度では回収される石膏はV型無水石 膏であるために再利用には好都合であるが，原紙部分を灰化させる のに長時間を要するために全体としての処理効率が悪い。」（段落 【００１５】） ・「これに比べて５００?６００℃の温度では，回収される石膏は， V型無水石膏とU型無水石膏との混合物となるが，比較的短時間で 原紙部分を灰化することができるので好ましい。一方，熱処理温度 が８００℃を超える温度では，石膏が熱分解して亜硫酸ガスが発生 し始め，回収される石膏はU型無水石膏と生石灰の混合物となるの で好ましくない。尚，加熱時間は上記の加熱温度や装置の処理容量 等との関係によって変化するが，例えば，加熱時間が５００?６０ ０℃である場合には，約５?１０分間程度で十分である。」（段落 【００１６】） ・【実施例】 「次に実施例及び比較例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。 石膏ボード廃材・・・を，図１のＡの粗粉砕機及び圧縮機にかけ・ ・・。次にそれらをＢの振動篩にかけて・・・比較例試料１を得た。 ・・・又，上記比較例試料１を高速衝撃粉砕機Ｂにかけて原紙部分 を解繊し，・・・比較例試料２を得た。 これらの比較例試料１及び比較例試料２を，図２に示したような 傾斜（度）のあるステンレス製２重管の内筒側に仕込み（内筒径３ ００ｍｍφ，内筒回転速度２?３ｒｐｍ，仕込量３００ｋｇ／Ｈ）， 排煙を燃焼用空気として回収しながら，内筒外面をＬＮＧバーナー を用い，回収石膏出口の石膏温度が５５０±５０℃となるように加 熱して，実施例試料１を得た。この時の各試料の内筒内滞留時間は それぞれ約３分間であった。・・・ ・・・同様に仕込量６００ｋｇ／Ｈで，回収石膏出口の石膏温度 が７５０±５０℃となるように加熱し，内筒内滞留時間約１分３０ 秒で，V型無水石膏が約２０重量％，U型無水石膏が約８０重量％ の実施例試料３を得た。・・・実施例試料２?３を得る際，いずれ も排気にはいわゆる煙は見られず，亜硫酸ガス臭もなかった。又， 回収石膏にも生石灰は確認されなかった。」（段落【００２５】? 【００２７】） ｂ 上記記載によると，甲５発明は，石膏ボード用原紙が付着している 石膏ボード廃材を間接加熱処理して石膏ボード用原紙を灰化させる ことを特徴とする石膏ボード廃材の処理方法に関し，ＳＯｘを発生さ せることなく処理するために，間接加熱処理温度を３００ないし８０ ０℃，好ましくは５００ないし６００℃に設定して焼成した結果，U 型無水石膏が約８０重量％の無水石膏を得ることができる，という発 明であるこが認められる。 (ｴ) 周知例につき ａ 甲１４発明 (a) 甲１４（特開平６?１４２６３３号公報）には，次の記載がある。 ・【特許請求の範囲】 「【請求項１】 石膏ボード芯の少なくとも一部に石膏ボード用 原紙が付着してなる石膏ボードの廃材を加熱して石膏ボード用 原紙を炭化させることを特徴とする石膏ボード廃材から石膏を 回収する方法。」 ・【発明の詳細な説明】 ・「また，得られる石膏を単に増量材として，或はアルカリ剤の存 在下で水和させて再利用する場合には，石膏ボードの廃材を３６ ０℃以上で，好ましくは３６０?６００℃で加熱して原紙を炭化 させ脱水した石膏の殆どがU型無水石膏とすることもできるし， 原紙を燃焼させて石膏をU型無水石膏とすることもできる。」 （段落【０００６】） ・「実施例１ 石膏ボードの廃材（厚さ１２mm の石膏ボードの端材，原紙は全 体の約７％）を破砕機により破砕し，９mm 目篩をパスした石膏ボ ードの破砕品を得た。この破砕品１０kg（原紙の量約７００g ） を撹拌機付き間接伝熱竪釜石膏加熱装置により加熱し原紙を炭 化させた。このときの加熱時間は１８０分で焼き上げ温度は３０ ０℃であった。この加熱品の石膏部分をＸ線回析で確認したとこ ろ，二水石膏及びU型無水石膏はなく全てV型無水石膏であっ た。」（段落【０００８】） (b) 上記記載によると，甲１４発明は，石膏ボード廃材から石膏を回 収する方法に関し，石膏ボードの廃材を，間接伝熱竪釜石膏加熱装 置により，好ましくは３６０ないし６００℃で加熱して原紙を炭化 させ脱水した石膏のほとんどをU型無水石膏とする，という発明で あることが認められる。 ｂ 甲１１ないし甲１３ (a) 甲１１（特開平５?２９３３５０号公報）には，次の記載がある。 ・「従来，石膏?水スラリー用分散剤として高度な分散性を示すナ フタレンスルホン酸ホルムアルデヒド縮合物（以下ナフタレン系 と称す）が知られている。」（段落【０００２】） (b) 甲１２（特開平６?１２７９９４号公報）には，次の記載がある。 ・「従来，石膏?水スラリー用分散剤として高度な分散性を示すナ フタレンスルホン酸ホルムアルデヒド縮合物（以下ナフタレン系 と称す）が知られている。」（段落【０００２】） (c) 甲１３（特開２００２?６８８２０号公報）には，次の記載があ る。 ・「従来，石膏ボード等に用いられる石膏スラリーの製造には，分 散剤としてリグニンスルホン酸塩やナフタレンスルホン酸塩ホ ルムアルデヒド縮合物，・・・等が使用されている・・・。」（段 落【０００２】） イ 相違点ａに関する判断について (ｱ) 審決は，訂正後発明１と甲１発明とは，「内筒の内部で燃料を燃焼さ せて該内筒の下部の開口部から燃焼ガスを噴出させ，前記内筒を囲繞 し，下部が逆円錐状に形成された本体に石膏を供給し，該本体の内部で 該石膏を，加熱しながら，前記燃焼ガスによって流動化させ，生じた無 水石膏を前記本体の内部から外部に排出する無水石膏の製造方法」の点 で一致し，下記の点で相違しているとした上，相違点ａについては甲１ ないし甲９，甲１１ないし甲１７のいずれによっても当業者が容易に想 到し得たということはできない，としている。 記 相違点ａ：訂正後発明１では，本体に供給する石膏が「ナフタレンス ルホン酸基を含む石膏廃材」であるのに対し，甲１発明で は，石膏（硫酸カルシウム二水和物）であるものの，ナフ タレンスルホン酸基を含む石膏廃材であるとの特定がさ れていない点。 相違点ｂ：訂正後発明１では，本体の内部で材料を「本体出口におけ る粉粒体温度が３３０℃以上５００℃以下になるように」 加熱するのに対し，甲１発明では，「約３５０℃以上の温 度に保つように」加熱している点。 相違点ｃ：訂正後発明１では，加熱により生じた無水石膏を「U型無 水石膏」と特定するのに対して，甲１発明では，単に「無 水石膏」であって型を特定していない点。 (ｲ) まず，前記甲２，甲５及び甲１４の記載からすれば，石膏廃材のよう な石膏製品の二水石膏を加熱脱水することで半水石膏や無水石膏を再 製できることは当該技術分野における周知技術であると認められる。 したがって，石膏を加熱して無水石膏を得る技術が開示されている甲 １発明において，加熱する石膏として「石膏廃材」を用いることは容易 に想到し得ることである。 次に，前記甲１１ないし甲１３の記載によれば，ナフタレンスルホン 酸基を含むナフタレンスルホン酸ホルムアルデヒド縮合物は石膏ボー ドに含有させる成分として周知であること，甲２，甲５及び甲１４発明 においては，石膏廃材を加熱すると硫黄酸化物が発生するため，その加 熱温度の上限をそれぞれ８５０℃及び８００℃と設定していることが 認められる。 そうすると，ナフタレンスルホン酸基の分解温度である８５０℃以下 において石膏廃材を加熱して無水石膏を焼成することは出願当時周知 技術であったと認められるから，甲１発明において，このような周知技 術を前提として，「ナフタレンスルホン酸基を含む石膏廃材」を供給す る石膏として用いることは容易に想到し得ると認めるのが相当である。 (ｳ) この点に関して被告らは，前記第３，３(2) ア(ｱ) ｃないしｆのとお り，石膏の分解温度より低い８５０℃でナフタレンスルホン酸基が分解 して硫黄酸化物が発生してしまうという訂正後発明１に示された課題 認識は相違点ａを判断する上で重要な要素であるところ，上記課題を指 摘した文献はなく，甲２ないし甲５にも上記課題認識について記載もな ければ示唆もないから，そのような課題認識のない状況で「ナフタレン スルホン酸基を含むものと含まないものもある多様な石膏廃材」から 「ナフタレンスルホン酸基を含むもの」を特定することはできない旨主 張する。 確かに，本件訂正明細書（甲２０）の段落【００１１】には「本発明 にかかる無水石膏の製造方法は，粉粒体を流動化状態として，高温の燃 焼ガスを接触させて加熱する間接加熱方式を採用し，粉粒体層は完全混 合状態となり，全体として略々均一な温度となり，局所的に過剰に加熱 されることはないため，原料としての石膏廃材粉末が，石膏自体の分解 温度（１０００℃以上）や，混和剤として含有されるナフタレンスルホ ン酸基の分解温度（８５０℃以上）に加熱されることを避けることがで きる。これによって，硫黄酸化物の発生を大幅に抑制することができる。 ここで，本体出口の粉粒体温度を３３０℃以上５００℃以下に制御する ことで，硫黄酸化物をほとんど発生させずに，石膏廃材中の２水石膏を 完全にU型無水石膏化することができる。」（下線は訂正部分）との記 載があり，上記記載によれば，訂正後発明１においては，石膏の分解温 度（１０００℃）より低い８５０℃でナフタレンスルホン酸基が分解し て硫黄酸化物が発生してしまうという課題認識のもとに，ナフタレンス ルホン酸基の分解温度（８５０℃以上）に加熱されることを避けるため に，本体出口の粉粒体温度を３３０℃以上５００℃以下に制御すること で，硫黄酸化物の発生を大幅に抑制する技術的事項が記載されていると 認められる。 しかし，上記(ｲ) のとおり，甲２及び甲５発明においては，石膏廃材 のような石膏製品の二水石膏を加熱すると硫黄酸化物が発生するため， その加熱温度の上限をそれぞれ８５０℃及び８００℃と設定しており， その上限温度は訂正後発明１の課題認識に基づく上限温度８５０℃以 下であるから，上記課題認識の有無にかかわらず，甲１発明に適用され る周知技術において既に上記課題解決のための手段が達成されている ばかりか，甲２及び甲５発明で示されている技術を用いる限り，「石膏 の分解温度より低い８５０℃でナフタレンスルホン酸基が分解して硫 黄酸化物が発生してしまう」という課題自体が発生しないのであって， それでも訂正後発明１と同じ作用効果を達成しているのであるから，甲 １，甲２，甲５，甲１１ないし甲１４に上記課題認識について記載や示 唆がないことは当業者（その発明の属する技術の分野における通常の知 識を有する者）が訂正後発明１を想到することの妨げとなるものではな いというべきである。 また，被告らは，上記課題認識のない状況で「ナフタレンスルホン酸 基を含むものと含まないものもある多様な石膏廃材」から「ナフタレン スルホン酸基を含むもの」を特定することはできない旨主張するが，上 記課題自体がそもそも発生しない状況で訂正後発明１と同じ課題解決 手段を有する周知技術を適用するに当たり，「ナフタレンスルホン酸基 を含むものと含まないものもある多様な石膏廃材」から「ナフタレンス ルホン酸基を含むもの」を特定することは，単なる材料の選択の問題に すぎないというべきである。 したがって，この点に関する被告らの主張は採用できない。 (ｴ) 以上のとおり，相違点ａについて容易想到ではないとした審決の判断 は誤りである。 ウ 相違点ｂに関する判断について (ｱ) 相違点ｂは，前記のとおり，訂正後発明１では，本体の内部で材料を 「本体出口における粉粒体温度が３３０℃以上５００℃以下になるよ うに」加熱するのに対し，甲１発明では，「約３５０℃以上の温度に保 つように」加熱している点，というものである。 ここで，本体の内部で材料を「本体出口における粉粒体温度が３３０ ℃以上５００℃以下になるように」加熱すると特定することは，前記２ (3) イ(ｳ) のとおり，本体内部での材料の加熱温度を特定することと実 質的に変わらないとみることができる。そうすると，訂正後発明１と甲 １発明とは，相違点ｂに関し，本体内部で石膏を加熱する温度範囲を特 定する点では共通するものであるが，加熱温度範囲の下限値が，前者で は「３３０℃」であるのに対し後者では「３５０℃」と異なる点，及び 上限値が前者では「５００℃以下」であるのに対し，後者では上限値を 特定していない点で相違しているとみることができる。 (ｲ) そこで検討するに，まず下限値が異なる点であるが，訂正後発明１及 び甲１発明のいずれにおいても，下限値はもともと石膏廃材等の二水石 膏からU型無水石膏を焼成するために必要な温度が少なくとも３３０ ℃以上であることによって設定される数値であるから，下限値を「３３ ０℃」に設定することと「３５０℃」に設定することには実質的な差違 はないと認められる。 次に，訂正後発明１では上限値を「５００℃以下」と定めているのに 対し，甲１発明では上限値を設定していない点であるが，前記イ(ｳ) の とおり，本件訂正明細書（甲２０）の段落【００１１】の記載によれば， 訂正後発明１においては，石膏の分解温度（１０００℃）より低い８５ ０℃でナフタレンスルホン酸基が分解して硫黄酸化物が発生してしま うという課題認識のもとに，ナフタレンスルホン酸基の分解温度（８５ ０℃以上）に加熱されることを避けるために，本体出口の粉粒体温度を ３３０℃以上５００℃以下に制御することで，硫黄酸化物の発生を大幅 に抑制するという技術的事項が記載されていると認められるものの，訂 正後発明１において上限値として臨界的意義を有しているのはナフタ レンスルホン酸基の分解温度（８５０℃以上）以下で加熱することであ って，前記２(3) イ(ｴ) で認定したとおり，もともと上限値を「５００ ℃以下」と設定した点については臨界的意義はもちろんのこと何らの技 術的意義も存しないのであるから，「５００℃」という特定の温度を設 定することについては格別の創意工夫を要しないこと，さらに，甲２， 甲５及び甲１４の各記載によれば，石膏廃材を加熱すると硫黄酸化物が 発生するという課題認識の下にそれを抑制するために，加熱温度の範囲 をそれぞれ，甲２では「４００?８５０℃」，甲５では「３００?８０ ０℃，好ましくは５００?６００℃」，甲１４では「３６０?６００℃」 と設定していることからすれば，甲１発明において，硫黄酸化物の発生 を極力抑制することを念頭に置いて甲２，甲５及び甲１４に記載された 周知技術を用いて，上限を「５００℃以下」と設定することは，当業者 が容易に想到し得ることであると認めるのが相当である。 (ｳ) この点に関して，被告らは，前記第３，３(2) ア(ｲ) のとおり，訂正 後発明１において「本体出口における粉粒体温度が３３０℃以上５００ ℃以下になるように加熱」することで，本体の内部で石膏廃材を３３０ ℃以上８４０℃以下に加熱することができるのであるから，「５００ ℃」という上限温度は「ナフタレンスルホン酸基の分解温度（８５０℃ 以上）」以上に加熱しないという技術的意義を有しているとし，「５０ ０℃」という温度設定に技術的意義があることを前提として縷々主張す るが，上記(ｲ)のとおり，「５００℃」という温度設定には何らの技術 的意義もないのであって，仮に被告らの主張を前提としても，「５００ ℃」という温度と「８５０℃」というナフタレンスルホン酸基の分解温 度を結びつける記載もないのであるから，「５００℃」という温度設定 に被告らの主張するような技術的意義を認めることはできない。したが って，「５００℃」という温度設定に技術的意義があることを前提とす る被告らの主張はいずれも採用することができない。 (ｴ) よって，相違点ｂについて容易想到ではないとした審決の判断も誤り である。 エ なお，審決は，訂正明細書等の段落【００１１】の記載や【表２】の実 施例を指摘して，訂正後発明１では，上限値を「５００℃」と特定するこ とによって，９５質量％を超える高純度のU型無水石膏が得られるという 効果があるとし，これは，甲１，甲２，甲５及び甲１４にはみられない顕 著な効果である旨と判断しているが（審決２４頁２３行?２６頁２３行）， このような純度の向上に関する効果は，訂正明細書等の段落【００１１】， 【００１２】，【００４２】によれば，集塵手段を用いて捕集ダストを循 環させることによって生じているものであって，決して，本体出口におけ る粉粒体温度の上限値を「５００℃」と設定したことによって生じる効果 ではないから，この点に関する審決の判断も誤りである。 オ 以上のとおり，訂正後発明１は，甲１発明及び甲２，甲５，甲１１ない し１４に記載された周知技術によって，当業者が容易に想到しうるものと いうべきであるから，審決には訂正後発明１に関する進歩性の判断を誤っ た違法がある。 (2) 訂正後発明２ないし４について 訂正後発明２ないし４は訂正後発明１についてさらに特定事項を加えた ものと認められるから，訂正後発明１が容易想到である以上，これらの発明 についても当業者が容易に発明することができたものというほかない。した がって，審決には訂正後発明２ないし４に関する進歩性の判断を誤った違法 がある。 (3) 訂正後発明５について 訂正後発明５は訂正後発明１ないし４を実施するためのシステムに関す る発明であって，訂正後発明１の特定事項と実質的に同じ特定事項を有する ものであって，訂正後発明１について述べた相違点ａないしｃと実質的に同 じ相違点が含まれると認められるから，訂正後発明１が容易想到である以 上，訂正後発明５についても当業者が容易に発明することができたものとい うほかない。したがって，審決には訂正後発明５に関する進歩性の判断を誤 った違法がある。 ４ 結論 以上のとおりであるから，原告の取消事由１の主張は理由がないが，取消事 由２は理由があるので，審決は違法として取り消しを免れない。 よって，原告の請求を認容することとして，主文のとおり判決する。 知的財産高等裁判所 第１部 裁判長裁判官 中 野 哲 弘 裁判官 東 海 林 保 裁判官 矢 口 俊 哉 |